项目概况

项目名称	原子层沉积设备	项目编号	BH202405130219
开始时间	2024-05-13 14:47	结束时间	2024-05-18 14:47
供应商资格要求	参照《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定的资格条件。	预算金额（元）	385000.00
采购方式	竞价

采购货物信息列表

序号	货物（服务）名称	数量	计量单位	预算单价
1	原子层沉积设备	1	台	38500000
	技术参数	1. 腔室：外热式水平流单腔腔室； 2. 样品台配有可拆卸片托，可放下最大 8 英寸晶圆； 3. 反应温度：最高 150℃，温度控制精度±1℃ 4. 2 路标准加热液态前驱体源，配置 swagelok 高温快速 ALD阀 （响应时间＜10ms）、手动阀、50ml 不锈钢源瓶，源瓶及管路加热 温度 RT-200℃，控制精度±1℃； 5. 1 路常温源，配置 swagelok 快速 ALD 阀（响应时间＜10ms）、 手动阀、50ml 不锈钢源瓶； 6. 含两路载气系统，全套 swagelok 管路+VCR 密封，前驱体源管路 具有在线清洗功能 7. 高性能真空系统，整机极限真空＜5×10-2Torr，真空漏率＜ 5×10-7 Pa·L/S 8. 配置机械泵，额定抽速≥60m3/h 9. 真空泵前级配置热阱，加热温度最高 500℃，控制精度±1℃，用 于吸附、分解未反应的前驱体源； 10. 进口压力传感器（真空计）,真空计前设有保护真空计的高效过 滤网以及气动隔膜阀； 11. 高精度 PLC+工控机沉积自动控制系统，满足高精度 ALD沉积需 求 12. 可视化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调 节温度、流量、脉冲时间等参数，编辑并保存配方参数； 13. 多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保 安全性； 14. 沉积模式：连续模式、停流模式； 15. 人机界面：外挂式触摸屏，可自由选择悬停位置 16. 在 8英寸硅片上以厂家提供的工艺配方沉积 300 循环氧化锡， 以晶圆上至少 9 个均匀分散点进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±2%
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