申购单号：CB106132022000345成交总额：390000.0
申购主题：反应离子刻蚀机 送货时间：合同签订后90天内
采购单位：西南交通大学 安装要求：免费上门安装（含材料费）
竞价开始时间：2022-11-18 17:04:17 收货地址：
竞价截至时间：2022-11-23 14:00:00
币种：人民币
付款方式：货到经验收合格后付款
备注说明：WSJJ-2022-142
质疑说明：如果对成交结果有异议，请在发布成交结果之日起三个工作日内向采购单位提出质疑
竞价结果：
采购项：反应离子刻蚀机 品牌： 创世威纳 型号： DISC-RIE-601
成交总价：390000.00
成交供应商：北京创世威纳科技有限公司
质保及售后服务： 1、按行业标准提供产品和服务； 2、是否要求本地有售后服务网点：（B） A.是 B.否 “本地”指采购单位所在省级行政区域；有售后服务网点的证明材料包括：参与竞价公司营业执照，当地某公司营业执照以及该当地公司与参与竞价公司之间签订的有效合作协议。本地供应商无需上传证明文件；外地供应商需上传当地服务网点证明文件压缩包。 3. 设备免费质保期：整机质保1年 4. 维修响应时间：修期内，接到报修电话后，4小时内做出维修方案决定并提出解决方案。如8小时内无法电话解决问题，维修人员在2个工作日内到达现场（含节假日），并在2个工作日（含节假日）内解决问题或提出明确解决方案。
技术参数： 1.设备主要技术指标 ★1.1腔体尺寸：Φ300mmH300mm，经氧化处理的铝质桶形卧式结构，上盖自动开闭。 1.2极限真空度：≤210-4Pa。 1.3静态升压：系统停泵关机12小时后，真空度≤5Pa。 1.4系统经清洗充干燥N2解除真空，短时暴露大气后抽气抽至510-3Pa时间小于20 min，至910-4Pa≤40 min。 1.5射频阴极尺寸：Φ200mm。 1.6刻蚀均匀性：≤±5%（Φ6英寸） 1.7主要工艺气体配置：SF6、CHF3、CF4、O2、Ar、N2（视具体刻蚀工艺）。 ★1.8电源配置：13.56MHz，600W，自动匹配 ★1.9刻蚀距离自动调节范围：60mm-120mm，调节精度：1mm。 1.10水冷工作台温度：<15℃。 1.11控制方式：基于PLC及工控机的全自动、半自动控制方式，包含安全报警系统。 2. 主要配置 2.1真空刻蚀腔体、样品架系统、一体机架、辅助设施1套 3.2复合分子泵1台，抽速600L/s 2.3真空泵1台，抽速8L/s 2.4超高真空电动调节插板阀1台，Φ150mm 2.5真空测量真空计1套 2.6自动压力控制系统1套，含薄膜真空计 2.7射频电源及自动匹配器：600W 2.8质量流量控制器：6台 2.9工艺气路：6路，SF6、CHF3、CF4、O2、Ar、N2 2.10可调距离射频阴极及射频引入器1套 2.11自动控制系统1套，包含PLC及模块、工控机、显示器。 2.12空气压缩机：1台 2.13刻蚀台冷却水机：1台 2.14系统冷却循环随机：1台