1.1. 电子光学系统

★1）电子枪：预对中型发叉式钨灯丝电子枪

★2）分辨率：二次电子像 ≤ 3.0 nm @ 30 kV

3）加速电压范围：1 kV～30 kV ，步进式连续可调

★4）放大倍数范围：1 x～300000 x（提供官方证明文件）

1.2. 真空系统

1） 真空系统：二级真空系统—1台涡轮分子泵，1台机械泵组成的机组

2） 全自动真空控制，具有真空互锁功能，有效避免误操作

3） 极限真空：优于9×10^-4 Pa抽真空时间：≤ 5 min 放气时间：≤ 2 min

4） 采用整体防震，内置整体真空泵组

1.3. 样品仓及样品台

★1）样品室配置：①防撞报警装置；②视频监测系统；③不少于2个可扩展接口，可联接EDS、EBSD 等多种附件和探测器；

★2）样品台：三轴样品台行程：X = 100 mm；Y = 100 mm；Z = 60 mm；（提供官方证明文件）

★3）样品台驱动方式：内置真空马达驱动（提供官方证明文件）

★4）最大载入样品：直径300 mm，高50 mm（提供官方证明文件）

2. 图像显示与处理

1.显示方式：全屏显示、分屏显示

2.扫描速度：预设四种扫描模式，扫描速度可自由配置，同时也支持感兴趣区域扫描模式

3.测量功能：支持多种测量标记工具，如长度、角度、直径等

4.状态菜单：显示各种工作参数

5.测量功能：支持多种测量标记工具，如长度、角度、直径等；

6.扫描方式：快扫、慢扫、中扫、选区扫描；

7.图像保存：最小768x512，最大为6144x4096，具有256个灰度

8.图像存储格式：TIFF、JPG、PNG、BMP格式

9.操作设备：键盘、鼠标

10.自动调整功能：聚焦、亮度对比度等

★11.内置光学照片导航系统，准确定位和识别样品；（提供官方证明文件）

12.检测信号：高真空二次电子探测器，背散射电子探测器，红外CCD；

13.配套计算机系统：操作系统：windows 10专业版，PC：专业工作站，配置：CPU：I7,内存：16G，硬盘:500G显示器：24寸（专业图像显示器，分辨率1920×1200）

★14.软件：纯中文操作界面，Windows操作系统，动态像散功能

★15.探测器：分析型SDD硅漂移电制冷探测器，30mm2有效面积；高分子超薄窗设计，无需液氮冷却，仅消耗电能。

★16.能量分辨率：Mn Ka保证优于129eV（@计数率100,000cps）；以上探测器能量分辨率保证符合ISO 15632:2012标准。

★17.元素分析范围：B5～Cf98。

18.具备零峰修正功能，可以快速稳定谱峰，开机后无需重新修正峰位。

19.能谱应用软件采用最新的实时平台，多线程设计。

★20.具备元素谱图Live功能，移动样品时，元素谱图实时刷新显示，无需在电镜和能谱软件间切换；在谱图采集时实时显示MinQuant的定量分析结果。

21.定性分析：AutoID可自动标识谱峰，可进行谱重构。

★22.定量分析：采用XPP定量修正技术，具有完备的标样数据库。

★23.电子图像最高分辨率达2048*2048像素；元素面分布图分辨率最高达1024*1024像素；可从面分布图上进行谱图重建。

★24.线扫描分析每条线可包含高达8192点，可从线扫描结果重建单点谱图。

3、随机耗材

预对中钨灯丝6个、φ32样品座10个、Ø13样品杯10个、6mm碳导电胶带1卷、样品盒1个

4、★为保证用户科研要求，提供满足客户测样要求的照片不少于四张。（附在响应文件中）

设备组件二：原位拉伸台

★1.最 大 力：2000N

2.行程：0～10mm

3.力值精度：传感器满量程的4-100% 内 ±0.5%示值或0.1%FS

4.力值分辨率：0.001N

5.位移分辨率：0.001mm

6.试验速度：0.001-2mm/min负荷控制精度：±0.5%以内

7.位移控制精度：±0.2%以内

8.配套附件：SEM高真空接线法兰，拉伸台固定连接法兰

9.外形尺寸：180mm×145mm×52.5mm

10.重量：≈2.0kg

★设备组件三：微机控制材料切割设备一套。