磁控溅射(GY202302814)自购结果公示
发布时间：2023-06-26
该项目经自行采购程序，允许自购：

供应商：	北京微纳真空技术有限公司
中标金额：	300000

公示开始日期	2023-06-26	公示截止日期	2023-06-27 17:46:59
采购单位	微电子学院	付款方式	预付50%，验收合格后付50%
签约时间要求		到货时间要求
收货地址	山东大学

采购清单1

采购物品	采购数量	计量单位
多靶磁控溅射镀膜设备	1	台

品牌	北京微纳真空技术有限公司	规格型号	VJC-400
技术参数	1) 真空腔室：Φ400×H450mm； 2) ★真空极限：优于5.0×10-5Pa； 3) ★抽速：抽至10-4Pa≤15min； 4) 基片台：最大可镀4英寸（Φ100mm）1片或者均布其它规格小片；基片台配挡板、旋转，加热（预留水冷）； 5) 磁控靶及电源：3只3inch圆形平面靶，3台电源，直流1台/射频2台； 6) 辅助溅射：可选配负偏压电源（预留）； 7) 气路系统：三路气体（Ar/O2/N2）MFC控制，量程范围为0～50SCCM\0～20SCCM \0～20SCCM； 8) 控制方式：PLC手自动控制，触摸屏操作； 9) ★特别定制：掩膜板一块。
售后服务	服务网点:外地;质保期限:3年;响应期限:报修后2小时;

资产与实验室管理部
2023-06-26