招标
中山大学先进能源学院原子层沉积系统采购项目采购需求公告
金额
-
项目地址
广东省
发布时间
2022/11/22
公告摘要
项目编号中大招(货)[2022]1309号
预算金额-
招标公司中山大学
招标联系人刘老师
标书截止时间-
投标截止时间-
公告正文
中山大学先进能源学院原子层沉积系统采购项目
基本信息
项目编号 中大招(货)[2022]1309号
项目名称 中山大学先进能源学院原子层沉积系统采购项目
项目类型 货物采购 申购主题 原子层沉积系统 采购单位 中山大学
项目预算 ***
采购开始时间 2022-11-22 22:32 
采购结束时间 2022-11-28 09:00 
是否送货
期望收货时间 合同签订后45天交货 经办人 刘老师 经办人电话 020-84115080
送货地址 广东省深圳市光明区公常路66号中山大学工学园1栋4楼
电子签章 本项目需要使用CA签字 CA操作手册下载
备注 1、本项目国内货物部分:含税人民币报价的付款方式按“ 中山大学国内采购合同(通用货物类)-适用于设备改造专项”的“4.付款及结算方式 4.1.3 分期结算(适用于货物总金额在学校分散采购限额标准以上)”;境外供货部分:付款方式按《中山大学进口货物采购合同》的“1.3付款方式 (2)通过中山大学网上竞价系统以外方式采购的进口货物”,加征关税及进口代理费用由乙方支付。报免税人民币价的公司必须有境外人民币收款账户。
2、进口货物中如有国内供货部分,供应商在报价时应分别报价,境外供货部分、国内供货部分的币种选择见第1条,并分别签订进口货物购销协议和国内采购合同。
3、本项目学校不收取任何费用。
4、本项目采用数字证书,请供应商根据指引 http://bidding.sysu.edu.cn/article/4902)提前办理CA证书。
 5、技术参数中标注有“★”号的条款必须实质性响应,负偏离(不满足要求)将导致报价无效。

设备列表
采购设备 数量 参考品牌 详细响应要求
原子层沉积系统 1台 详情请进入系统查看
"原子层沉积系统"技术要求
序号 技术要求内容 评分等级 是否需要附件说明
1 1. 工作条件:电源电压:AC 380V±10%,50Hz,三相五线。长时间连续工作(满足7×24,即每周7天、每天24小时运行)。 重要
2 2.设备基础规格:1)适用于8英寸、6英寸、4英寸、3英寸、2英寸及破片加工。2)设备运行过程中,整机外壳温度均不高于60℃,以保证操作的安全性。 重要
3 3.真空腔材质为不锈钢,腔体表面经过电解抛光处理。样品台室温至500℃可控,尺寸不小于直径200mm,可放样品高度不小于10mm。腔体进气方式:前驱体蒸汽通过喷淋头进入真空腔,蒸汽自上而下流经衬底。 重要
4 4. 腔体开关方式:可通过界面操作系统自动开关腔门,配备安全互锁检测功能,确保腔门在安全状态下开关;耐腐蚀O型密封圈。 非常重要
5 5.腔体具备快速开关真空隔离装置,防止前驱体气体和等离子体活性自由基交叉污染,避免污染电感耦合等离子体反应装置。 非常重要
6 6.真空腔体上方具备独立的反应气扩散区域,配备活动式结构,腔体上方所有结构可完全打开。反应腔体内部配备可更换式内衬。 重要
7 7.1)至少配备6路前驱体源管路:2路常温源、4路加热源(不低于150℃);其中常温源管路需加配耐腐蚀微调阀。2) 每个前驱体源气路至少配备1个源瓶(≥250mL)和2个进口阀门。3)阀门配备安全互锁检测功能,在真空腔门打开时处于强制关闭状态,防止前驱体暴露在空气中。4) 至少配备2路反应物管路,反应物包含H2O,每路反应物管路分别配备1个进口阀门,阀门最高耐温不小于150℃。5)反应物管路需加配微调阀。6)反应物H2O管路需配备至少1个经过电解抛光处理且体积不小于75mL的不锈钢源瓶。7)前驱体管路配有载气(N2),载气管路前端需配备计量调压阀、气动阀等。8)吹扫管路采用不少于1个质量流量控制器和1个进口阀门(阀门最高耐温不小于150℃)用于控制惰性气体。9)管路及接头均采用EP级电解抛光不锈钢材料,所有气体管路连接处采用金属VCR密封。 重要
8 8.源瓶系统:室温至150℃可控,控制精度≤±1℃。 重要
9 ★9.加热箱:室温至150℃可控,控制精度≤±1℃,要求所有管路放置在加热箱内实现一体式加热,加热箱内管路温度均匀性≤±5℃。 重要
10 10.1)采用固态继电器用于控制加热。2)真空泵采用双级油封式旋片真空泵,抽速≥62m3/h,噪音不大于62dB。3)真空测量:至少配备2个真空压力计,包含一个高真空压力计和一个大气真空压力计。4)真空压力计采用薄膜规,要求高精度,长寿命,必须对腐蚀性介质具有极高的耐受性,可在工艺进行的同时进行压力监测,精度:±0.25%读数;响应时间:<20ms;分辨率:≤0.005%FS。 重要
11 11. 设备软硬件规格:1)控制系统配备工控机和PLC,工控机配备SSD固态硬盘,安装正版操作系统;PLC可支持2ms扫描周期。2)输入设备配备鼠标、键盘和触摸显示器,显示器尺寸不小于19inch,可360度自由旋转,可调视距、视角、自由悬停。3)界面操作系统支持历史数据、报警日志的存储和导入导出功能。4) 界面操作系统需实时展示系统加热状态、所有阀门开关状态、腔室压力状态。5)界面操作系统具备配方编辑功能,可对工艺参数沉积温度、循环次数、脉冲时间等进行编辑。6)用户可设定设备及工艺运行时的报警参数,包括但不限于温度、压力、流量等。7)用户可设定设备及工艺运行时的提醒参数,包括前驱体源用量追踪及提醒功能。8)界面操作系统具备用户权限管理功能,可根据用户级别设定使用权限,针对操作人员分级管理。9)界面操作系统支持多个配方交替运行,实现单一和多层薄膜材料的制备。10)界面操作系统可自动完成Thermal-ALD和PEALD的单一或多层配方运行。11)界面操作系统配备独立的维护界面,所有管路具备自动清洗功能,确保ALD阀门与真空腔之间的管路没有前驱体残留。12)阀门配备电磁阀,电磁阀响应时间<5ms,带过电压保护回路,带动作指示灯。 重要
12 12.等离子体系统:1)采用电感耦合(ICP)远程等离子体激发源。2)配备自动匹配器,可自动进行阻抗匹配,缩短匹配时间。3)配备自动匹配器集成步进马达和驱动器,集成VI传感器,传感器具备检测射频功率输出端参数功能,匹配时间不大于3s。4) 至少配备1路气体管路,包含N2。5)每路气体管路至少配备1个进口阀门和1个质量流量控制器。6)等离子体工艺启辉窗口,功率范围30-1000W,压力范围0.05-1.0Torr。 重要
13 13.等离子系统:配备射频电源,频率≥13.56MHz,功率不小于1000W,冷却方式为风冷。功率输出稳定度及功率调节精度不大于10W,功率转化效率不小于65%,杂散功率抑制不小于-60dBc,谐波抑制不小于-50dBc。 非常重要
14 14.工艺及服务: 工艺验收标准:8英寸(直径200mm)单晶硅片基底上沉积≥29nm Al2O3薄膜,薄膜的不均匀性<2%(均匀九点)。 重要
15 15.配置清单:原子层沉积系统1台;集成等离子体系统1套。 重要
16 16.售后服务及培训要求:1)4小时内用电话,电子邮件或传真答复指导。如果电话,电子邮件或传真指导不能解决问题,中标人的工程师在收到客户电话的48小时内到达客户实验室解决问题。2)培训要求:安装调试后,中标人应做一次不少于4小时的培训,直至设备使用人员学会使用为止,培训人数原则上不限定。 重要


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