宁波大学 - 竞价公告 (CB116462024000852)
发布时间：2024-07-11 17:49:52 截止时间：2024-07-16 13:30:00
基本信息：
申购主题：高真空磁控溅射薄膜沉积系统
报价要求：国产含税
发票类型：增值税专用发票
付款方式：货到验收合格后付款
送货时间：发布竞价结果后7天内送达
安装要求：免费上门安装（含材料费）
预算：****** 人民币

收货地址：浙江省/宁波市/江北区/****
供应商资质：
备注说明：
采购明细：

序号		数量/单位	预算单价	品牌	型号	规格参数	质保及售后服务	附件

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高真空磁控溅射薄膜沉积系统

1/台

品牌: 中国科学院沈阳科学仪器;型号:TRP450F

真空腔室采用前开门，选用优质不锈钢，牌号不低于304，电解抛光、钝化处理 溅射室极限真空度≤3x10-5Pa(经烘烤除气后) 溅射室25分钟可达到5x10-4 Pa 系统停泵关机12小时后真空度≤10Pa 配备三靶溅射系统，含一个强磁靶。靶大小为50.4mm，各靶可独立/顺次/共同工作，包含500WDC power*2、500WRFpower*1电源和靶可自动切换，各靶含独立旋转气动控制挡板组件 置样装置；4英寸样品加热炉温度：室温～800°C，精度:±1°C；样品台可加负偏压-200V； 膜厚不均匀性优于±5% 含三路气体（Ar、O2、备一），二套质量流量控制器，精准度1.5 %

按行业标准提供服务