招标
深圳技术大学等离子增强化学沉积仪(PECVD)等设备意向公开
金额
830万元
项目地址
广东省
发布时间
2023/11/01
公告摘要
公告正文
深圳技术大学等离子增强化学沉积仪(PECVD)等设备意向公开
| 采购单位: | 深圳技术大学 |
| 项目名称: | 等离子增强化学沉积仪(PECVD)等设备 |
| 预算金额（元）: | 8,300,000.000 |
| 采购品目: | 其他仪器仪表 |
| 采购需求概况: | 拟采购一批设备，配置包括： 一、等离子增强化学沉积仪(PECVD)，1套： 1.晶圆大小：8英寸向下兼容，采用托盘方式兼容；2.配置放置8、6、4、3、2英寸的晶圆托盘；3.RF电源：13.56MHz, 0~600W；4.晶圆载台加热器最高温度: 350°C；5.工艺气路：SiH4, NH3, N2O, N2, O2, CF4；6.成膜材料：SiO2, SiNx；7.片内和片间膜均匀性：≤±5%；8.腔体结构：传送腔 沉积工艺腔。 二、LPCVD扩散炉，1套： 1、炉管适用晶圆尺寸：6英寸及以下圆片，产量≥25片/批；2、炉管功能：第一管干氧/湿氧氧化，第二管氮化硅制备，第三管常压/真空退火；3、真空系统参数：系统极限真空度≤5Pa，工作压力及精度：10Pa-40Pa、1Torr（真空计），恢复真空时间：常压（AP）至10Pa≤10min，系统漏气率≤5E-10 Pa·m3/s；4、气路系统：MFC控制，控制精度≤±1%F·S，漏率≤5E-10Pa·m3/s，气体最大流量：氮气/氧气20L、氢气10L、氨气500SCCM、二氯二氢硅200SCCM;5、温控范围：氧化管：600℃-1150℃，LPCVD管：600℃-800℃，真空退火管：600℃-1000℃；6、恒温区长度：300mm，精度：≤±0.5℃（＞800℃）、≤1℃（＜800℃），单点温度稳定性：≤±0.5℃/4h @900℃，炉体升温速率：最大升温速率：10℃/min，最大降温速率：3℃/min；7、温度控制方式：三段内外热偶双回路温度控制，自动校温区,能快速回温；8、片内及片间薄膜均匀性：≤±3%（6英寸晶圆片，薄膜300nm,边缘排除5mm）；9、送片方式：自动进出舟送片。 三、电子束蒸发镀膜机，1套： 1.设备实现工艺：在不同基片材料上使用各种镀膜材料进行光学薄膜的蒸镀，材料至少包含SiO2,Nb2O5,Si,MgF2；2.能满足8英寸及向下兼容基片的蒸镀需求，适配公转盘垂直蒸镀；满足3英寸/4英寸基片可调角度的斜向蒸镀；3.极限真空:≤7E-7mbar；4.薄膜厚度均匀性（8英寸）：≤±3%，折射率均匀度≤±3%；5.双电子束蒸发器，功率≥10kW，用于蒸镀材料的多穴直接水冷坩埚，坩埚数≥10，坩埚口径≥40mm；6.基片加热系统可加热到350°C，温控在±10°C以内；7.物理厚度监控系统配置有晶振6位探头的晶控系统，最小精度0.1？/S，有自动切换功能；8.配备反射光学控制系统。 |
| 联系人: | 宋惠雪 |
| 联系电话: | 0755-23256324 |
| 预计采购时间: | 2023-12 |
| 备注: | 无 |
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