公告摘要
项目编号wust-jjxm-20220048
预算金额19.3万元
招标公司武汉科技大学
招标联系人-
标书截止时间-
投标截止时间-
公告正文
项目编号: 项目地区:山西省
发布时间:2022-06-27 截止时间:
采购商:太原理工大学
项目名称 磁控溅射镀膜机采购 项目编号 WUST-JJXM-20220048
项目编号 WUST-JJXM-20220048
公告发布日期 2022/06/27 10:26 公告截止日期 2022/06/30 10:26
公告截止日期 2022/06/30 10:26
采购单位 武汉科技大学 付款条款 货到验收合格后一次性支付全款
付款条款 货到验收合格后一次性支付全款
联系人 中标后在我参与的项目中查看 联系手机 中标后在我参与的项目中查看
联系手机 中标后在我参与的项目中查看
是否本地化服务 是否需要踏勘
是否需要踏勘
踏勘联系人 踏勘联系电话
踏勘联系电话
踏勘地点 踏勘联系时间
踏勘联系时间
采购预算 ¥193,000.00
送货/施工/服务期限 合同生效之日起20日内
送货/施工/服务地址 武汉市青山区武汉科技大学信息科学与工程学院

   采购清单
1
采购内容 是否进口 计量单位 采购数量 售后服务
磁控溅射镀膜机 1 1 1.1、在设备到达目的地后,投标人派工程师到用户处免费进行设备的安装、调试。
1.2.1、负责镀膜系统的现场安装和调试;
1.2.2、提供设备的操作培训;
1.2.3、提供设备的常见问题处理培训;
1.2.4、提供有关镀膜工艺培训,有专业的镀膜工艺人员现场提供培训,并提供设备试机时的金属靶材。
2.1保修:合同设备安装后,设备保修期为验收合格后1年。
2.2合同设备出现故障时,投标人确保及时维修,并确保在接到用户方服务要求的2小时内作出回应。
电话指导不能排除的故障,工程师可在1个工作日内到现场进行维修服务,仅收取材料成本费。
参考品牌及型号 不限定品牌型号
技术参数要求 1.真空系统及溅射真空室组件
1.1 真空系统:8L机械泵+KYKY FF-160/620C分子泵,配备超高真空主阀+全自动节流阀;
1.2真空室尺寸约300 mm ×300 mm× 350 mm,U型结构,正面开门结构,可烘烤100 ~ 150 度,选用优质不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面进行特殊工艺抛光处理,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;
真空室组件上焊有各种规格的法兰。
2、磁控溅射靶组件至少2套2.1、靶材尺寸:2英寸;
2.2、永磁靶:射频溅射与直流溅射兼容,靶内有水冷;2.3、气动控制挡板组件:3套;
2.4、靶配有屏蔽罩,以避免靶材之间的交叉污染;
2.5、倾斜向上溅射时,靶与样品距离60 ~ 130 mm可调并有调位距离指示。当直接向上溅射时,靶与样品距离40 ~ 80 mm可调,并有调位距离指示。
3、单基片加热旋转台,基片通过加热丝加热方式,由热电偶闭环反馈控制,可控可调,精度±1 oC;温度均匀性在衬底上的偏差约≤ 2%;
4、窗口及法兰接口部件4.1、直径大于100玻璃窗口:1块;4.2、陶瓷封接引线法兰:1个(内烘烤引线);
5、工作气路(溅射室)
5.1、100 SCCM、50 SCCM质量流量控制器、进气截止阀、混气室、管路等:
6、离子源 配备一套离子源,用于辅助溅射。
7、安装机台架组件型材框架,快卸围板表面喷塑处理;机台表面用不锈钢蒙皮装饰;四只脚轮,可固定,可移动;
8、真空测量及电控系统8.1、电源机柜:2台(含供电电源,有断电保护功能);
8.2、控制电源:1台(为机械泵、电磁阀、升降电机等提供电源);
8.3、冷却水循环系统,制冷功率大于1P;
水流报警系统:2套(对分子泵、磁控靶有断水报警切断电源等相应功能);
8.4、溅射室样品加热控温电源:1套(日本产控温表,可实现程序控温);
8.5、电机控制电源:1套;
8.6、靶挡板电源:2套;
8.7、加热烘烤及照明电源:1套;
8.8、宽量程数显真空计:2套;测量范围:1.0 × 105 Pa ~ 1.0 × 10-5 Pa。
8.9、100 SCCM、50 SCCM质量流量控制器:2套;
8.10、分子泵控制电源:1套;
8.11、500 W射频电源:1套(配自动匹配器);
8.12、500 W直流电源:1套;
9、控制系统配备触摸屏自动控制,可实现全自动镀膜,提供ITO、AZO、氧化镍、氮化钛镀膜工艺;

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