高真空多靶磁控溅射镀膜系统竞价项目

中标

高真空多靶磁控溅射镀膜系统竞价项目

高真空多靶磁控溅射镀膜系统真空腔室基片台溅射靶磁控靶

金额

19.35万元

项目地址

发布时间

2022/03/31

公告摘要

项目编号hw2022000099

预算金额19.35万元

招标公司-

招标联系人-

中标公司北京泰科诺科技有限公司19.35万元

中标联系人-

公告正文

一、采购需求信息

项目号

HW2022000099

设备品目类别

仪器设备

设备用途

科研

竞价开始时间

2022-03-22 10:30:33

竞价结束时间

2022-03-28 10:37:00

高真空多靶磁控溅射镀膜系统

商品名称

高真空多靶磁控溅射镀膜系统

品牌/厂家

北京泰科诺

型号

JCP500

数量

计量单位

套

成交单价

193500.00 元

成交供应商

北京泰科诺科技有限公司

保修年限

1年

技术指标

真空腔室： Ф500×H420mm，304优质不锈钢，前开门结构；真空系统：复合分子泵+直联旋片泵+高真空阀门组合的高真空系统，数显复合真空计；真空极限： 6.0×10-5Pa（设备空载抽真空24小时）；漏率：设备升压率≤0.8Pa/h；设备保压：停泵12小时候后，真空≤10Pa；抽速：（空载）从大气抽至5.0×10-3Pa≤15min；基片台尺寸： Φ150mm范围内可装卡各种规格基片；基片台旋转与加热：基片旋转：0～20转/分钟；加热:室温～500±1℃，可控可调，日本岛电PID智能温控闭环控温；溅射靶：可配置3套3英寸永磁共焦磁控溅射靶（溅射靶角度、高度可调）；安装2只3英寸靶，预留1只3英寸的安装位置。磁控靶RF、MF、DC兼容，可以溅射磁性材料，磁控靶配有气动挡板结构；工作方式：各靶可独立/顺次/共同工作，采用磁控靶从下向上溅射镀膜；脉冲偏压电源： -1000V，1套；膜厚不均匀性： ≤±5%（基片台Φ100mm范围内）；控制方式：PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统；报警及保护：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统；占地：（主机）L1900×W800×H1900（mm）。

安装及售后要求

质量保修期：设备自在甲方现场之日起一年内。质量保修期内乙方向甲方提供免费设备维修服务，售后做到48小时内上门。

附件

无

更多咨询报价请点击： http://wsjj.zbzx.scut.edu.cn/notices/12735