一、采购需求信息

设备品目类别

金属表面处理设备

设备用途

科研

项目号

HW2023000471

是否批量报价

总价最低成交

竞价开始时间

2023-10-24 15:14:48

竞价结束时间

2023-10-26 15:13:00

交货时间

结果公布后30天

交货地点

华南理工大学五山校区

产品类型

******

结算货币

人民币

贷款支付方式

2、预付30%-40%，剩余部分验收合格后一次性付清。

二、高真空双靶磁控溅射仪

商品名称

高真空双靶磁控溅射仪

数量

1

品牌/厂家

科晶/沈阳科晶自动化有限公司

参考型号

VTC-600-2HD

计量单位

台

本商品预算单价(元)

******

保修年限

1年

技术指标

用于金属和氧化物薄膜沉积。主要指标： 1、极限真空度：<9.0×10-4Pa 2、样品台加热温度：RT-500℃，精度±1℃6 3、靶枪数量：2个，其中1个直流，1个射频，带磁控 4、靶枪冷却方式：水冷 5、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 6、配循环水冷机 7、样品台可旋转，转速：1rpm-20rpm内可调 8、工作气体：Ar等惰性气体 9、进气气路：质量流量计控制2路进气 10、带薄膜测厚仪：一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å 11、LED 显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据 12、真空系统：极限压力< 1E-8（无任何泄露下）；前级泵抽速：0.9m3/h（50Hz）、1.0m3/h（60Hz） 13、沉积室腔体：金属

安装及售后要求

有专业安装培训工程师，中标结果公布后30天内交货，24小时内上门安装培训；定期上门对设备进行整体保养，不少于5次；

附件

无

供应商报价须知
1.本系统将向成交供应商收取成交金额的0.5%作为技术服务费；
    请成交供应商在参与项目竞价完成后及时登录系统，务必在项目成交后5个工作日内点击“操作”确认成交并缴纳平台使用服务费。
   （特别提醒： 超过5个工作日逾期未支付平台服务费用，视为自动放弃成交结果！）
2.必须提供原装原厂新货品；
3.为防止恶意控制价格，在网上竞价结果公布前，不允许任何供应商向厂家或总代理商报备；
4.“参考型号”仅供参考，如供应商提供不同型号产品，须注明提供型号，并上传相关材料证明可达到用户所需的功能，否则作无效报价；
5.本系统预算仅供参考，采购人不能支付的超预算报价，作无效报价处理；
6.一般以人民币报价的项目，必须含税；以外币报价的项目，必须按照CIF广州港/CIP广州机场/DAP华南理工大学进行报价；如项目有特殊说明的从其说明；
7.定制类项目竞价完毕后，如用户单位如需要提供样品，竞价单位则必须要提供，因此，报价时必须考虑；
8.空调、监控等强、弱电安装项目，竞价单位必须具有相关安装资质的技术人员（并能提供相关证明材料），严禁无证上岗；
9.供货完毕后，提供购销类发票（非工程类发票或服务类发票）给用户单位。