招标
GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪-中南大学-竞价公告(CB119422023002971)
金额
-
项目地址
湖南省
发布时间
2023/10/16
公告摘要
公告正文
中南大学 - 竞价公告 (CB119422023002971)
发布时间:2023-10-16 08:44:21 截止时间:2023-10-19 08:54:09
基本信息:
申购主题:GVC-2000T 高真空磁控离子溅射仪
报价要求:国产含税
发票类型:增值税专用发票
付款方式:货到验收合格后付款
送货时间:发布竞价结果后7天内送达
安装要求:免费上门安装(含材料费)
预算:****** 人民币
收货地址:湖南省/长沙市/岳麓区/****
备注说明:
采购明细:
序号 | 采购内容 | 数量/单位 | 预算单价 | 品牌 | 型号 | 规格参数 | 质保及售后服务 | 附件 |
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1 | GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪 | 1/台 | 北京格微仪器 | GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪 | 外形尺寸 424(L)×345(D)×420(H) 输入电源 220V/800W 可用靶材 所有金属、部分化合物 靶材尺寸 φ57mm 真空室 高硅硼玻璃 φ200×130mm 工作介质 高纯氩气(≥4N) 低真空泵 旋片泵 抽速 1.1L/s 高真空泵 进口涡轮分子泵 抽速 90L/s 极限真空 ≤5×10-3Pa 工作真空 0.1-3Pa 溅射电流 5-200mA 可调 溅射时间 1-999s 可调 样品台 φ125mm 样品台转速 4-20rpm 可调 显示屏 7 英寸 TFT 彩色触摸屏 抽气节拍 ≤5 分钟 进气 全自动 放气 全自动 预溅射 具备预溅射挡板,全自动控制 保护功能 过流保护、真空保护、分子泵过热保护等 膜厚仪(选配) 可实时显示镀膜厚度,并通过设定来控制镀膜过程,最优测量精度 0.1nm,单次镀膜设定范围 1-999nm,最大测量范围 10μm 其它 可根据用户需要,提供定制化产品 | 按行业标准提供服务 | 006 GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪产品资料单页(1).pdf |
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