超高真空磁控溅射镀膜系统采购单一来源采购公示？

中标

超高真空磁控溅射镀膜系统超高真空溅射靶枪超高真空多靶磁控溅射系统

金额

项目地址

山西省

发布时间

2021/03/18

公告摘要

项目编号-

预算金额297万元

招标公司太原科技大学材料学院

招标联系人王志成

中标公司山西朝阳兴业电子科技有限公司

中标联系人-

公告正文

超高真空磁控溅射镀膜系统采购单一来源采购公示？

一、项目信息

采购人：　太原科技大学材料学院　　　　　　　

项目名称：　超高真空磁控溅射镀膜系统　　　

拟采购的货物或服务的说明：超高真空磁控溅射镀膜系统　　　　　

拟采购的货物或服务的预算金额：　297万　　　　　　　　　

采用单一来源采购方式的原因及说明：采购超高真空磁控溅射镀膜系统，主要用于磁电子学及低维材料和器件等国际前沿的科研工作，开发新型高质量的功能性纳米薄膜材料，探索新型磁电子器件等。制备高均匀性、高质量、工艺稳定性好的纳米级单层和多层薄膜是该研究的关键，因此需要购置一套超高真空磁控溅射镀膜系统。技术指标：沉积腔单腔集成至少5个2英寸超高真空溅射靶枪；靶枪具有共聚焦与侧向溅射相结合的独特构型；同一靶枪可以在强磁靶枪和普通磁性靶枪之间转换工作，适合多类别材料制备；强磁靶可做3mm厚磁性材料；靶枪可根据科研需求，配置在平衡，非平衡和磁性材料模式中工作；所有靶枪均采用稀土磁铁，磁铁和冷却水隔离；所有靶枪可以承受200℃烘烤和10^-11Torr真空；基片最高加热温度850℃，PID温控精度±1℃；在4英寸（100mm）基片范围内薄膜沉积均匀性优于±2.5%；主腔体极限真空优于5x10^-8Torr，采用下游压力控制。