延期信息

延期理由：

因报价情况不满足要求，采购方决定延期

项目名称	物理电子工程学院PVD500磁控溅射薄膜沉积设备采购	项目编号	CG20240364
项目编号	CG20240364
公告发布日期	2024/06/11 09:46	公告截止日期	2024/06/16 09:46
公告截止日期	2024/06/16 09:46
采购单位	山西大学	付款条款	合同生效后发货前预付50%，货到验收合格后支付50%
付款条款	合同生效后发货前预付50%，货到验收合格后支付50%
联系人	中标后在我参与的项目中查看	联系手机	中标后在我参与的项目中查看
联系手机	中标后在我参与的项目中查看
是否本地化服务	否	是否需要踏勘	否
是否需要踏勘	否
踏勘联系人		踏勘联系电话
踏勘联系电话
踏勘地点		踏勘联系时间
踏勘联系时间
送货/施工/服务期限	合同生效之日起90日内
送货/施工/服务地址	山西省太原市小店区南内环街16号 太原第一实验室二层千级实验室二
付款条款	合同生效后发货前预付50%，货到验收合格后支付50%
其他说明	1、货物服务类竞价项目，进口产品收取成交金额3%的履约保证金，特殊情况另行约定。

   采购清单
1

采购内容		是否进口	限定品牌	限定型号	计量单位	采购数量
PVD500磁控溅射薄膜沉积设备		否	不限定品牌	不限定型号	台	1
售后服务	质保1年。
技术参数要求	PVD500磁控溅射薄膜沉积设备。设备极限真空度：≤5x10-5Pa(经烘烤除气后)；30分钟可达到5x10-4Pa；5个2英寸溅射靶枪，镀膜时工作真空度：0.1～10Pa；加热方式：电阻丝加热,加热温度范围：室温-800℃，连续可调，精度±1°C。