高真空电阻蒸发镀膜设备采购公告

招标

高真空电阻蒸发镀膜设备采购公告

衬底加热组件高真空电阻蒸发镀膜设备冷却循环水机速率和膜厚检测系统基片掩膜真空腔室衬底水冷组件速率和膜厚监控蒸发电源包装箱掩膜板真空系统

金额

项目地址

天津市

发布时间

2024/11/05

公告摘要

项目编号jj2024002276

预算金额-

招标公司南开大学

招标联系人-

标书截止时间-

投标截止时间-

公告正文

打印公告

高真空电阻蒸发镀膜设备（JJ2024002276）采购公告
发布时间：2024-11-05 09:14:58阅读量：14次

项目名称高真空电阻蒸发镀膜设备项目编号 JJ2024002276

公告开始日期 2024-11-05 09:14:58 公告截止日期 2024-11-06 10:00:00

采购单位南开大学付款方式供方提供货物至需方指定地点经安装验收合格，双方签字确认后，七个工作日内支付全部货款。

联系人成交后在我参与的项目中查看联系电话成交后在我参与的项目中查看

签约时间要求到货时间要求按照合同约定执行

预算总价 NaN + NaN + NaN 未公布

发票要求增值税普通发票增值税专用发票

含税要求

送货要求

安装要求

收货地址天津市津南区同砚路38号南开大学津南校区材料科学与工程学院328

供应商资质要求
符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

公告说明

采购清单1
采购商品采购数量计量单位所属分类

高真空电阻蒸发镀膜设备 1 台无无

品牌品牌1 维纳真空

型号定制

品牌2

型号

品牌3

型号

品牌4

型号

品牌5

型号

品牌6

型号

预算单价￥NaN

技术参数及配置要求 1.真空腔室：Φ300×p20mm，上钟罩（高硼硅玻璃）+下底座（304 不锈钢）结构；
2.真空系统：600L/s 抽速复合分子泵+直联旋片泵组成的大抽速、准无油真空系统；全量程数显复合真空计（1×105～1×10-5Pa）；
3.真空极限：≤3.0×10-5Pa（2.3×10-7Torr）；
4.抽速：分子泵完全启动，抽至 3.0×10-4Pa≤10min；
5.结构尺寸：
（1）抽屉式结构，最大可镀基片尺寸：112×112mm，该范围内可装卡各种规格基片：15～25mm 方形 ITO/FTO 玻璃约 16～25 片；
（2）基片掩膜：随设备提供一块掩膜板（客户需需提供掩膜图案）；
（3）衬底水冷：采用基片台背板通冷却循环水强制水冷；
6.蒸发源及电源：两组蒸发源；采用水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料和有机材料的蒸发源结构设计；蒸发源配隔离屏蔽罩，防止两源交叉污染且屏蔽有害热量；6.膜厚监控：采用高精度石英晶振膜厚监控仪在线监测蒸镀速率、自控膜厚；
7.蒸发电源：台蒸发电源，通过切换按钮，能实现一次真空环境两源依次蒸发；额定功率：2.3KW，恒流工作模式，最大电流 230A；
8.速率和膜厚监控：采用膜厚监控仪和开发的膜厚控制程序，蒸镀过程中实时监测蒸发速率，监控膜厚；厚度监测范围 1？～9999？，分辨率 1？；速率监测范围 0.1？～9999.9？/s，分辨率 0.1？；
9.水冷系统：水冷部件有分子泵、蒸发电极、膜厚仪探头等；配高精度冷却循环水机 1 台；
10.控制方式：PLC 手自动控制，触摸屏操作；
11.报警及保护：对分子泵、膜厚仪探头、蒸发电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的程序互锁、完备的防误操作设计及保护。
12. 特别定制：掩膜板一块。二、产品配置
1.高真空电阻蒸发镀膜设备
2.冷却循环水机；
3.速率和膜厚检测系统；
4.衬底水冷组件；
5.衬底加热组件；
6.说明书一份；
7.包装箱一套；

参考链接

售后服务按国家法定或行业要求提供售后服务。

南开大学
2024-11-05 09:14:58
点击查看内容

项目名称	高真空电阻蒸发镀膜设备	项目编号	JJ2024002276
公告开始日期	2024-11-05 09:14:58	公告截止日期	2024-11-06 10:00:00
采购单位	南开大学	付款方式	供方提供货物至需方指定地点经安装验收合格，双方签字确认后，七个工作日内支付全部货款。
联系人	成交后在我参与的项目中查看	联系电话	成交后在我参与的项目中查看
签约时间要求		到货时间要求	按照合同约定执行
预算总价	NaN + NaN + NaN 未公布
发票要求	增值税普通发票增值税专用发票
含税要求
送货要求
安装要求
收货地址	天津市津南区同砚路38号南开大学津南校区材料科学与工程学院328
供应商资质要求	符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件
公告说明

采购商品	采购数量	计量单位	所属分类
高真空电阻蒸发镀膜设备	1	台	无无

品牌品牌1	维纳真空
型号	定制
品牌2
型号
品牌3
型号
品牌4
型号
品牌5
型号
品牌6
型号
预算单价	￥NaN
技术参数及配置要求	1.真空腔室：Φ300×p20mm，上钟罩（高硼硅玻璃）+下底座（304 不锈钢）结构； 2.真空系统：600L/s 抽速复合分子泵+直联旋片泵组成的大抽速、准无油真空系统；全量程数显复合真空计（1×105～1×10-5Pa）； 3.真空极限：≤3.0×10-5Pa（2.3×10-7Torr）； 4.抽速：分子泵完全启动，抽至 3.0×10-4Pa≤10min； 5.结构尺寸：（1）抽屉式结构，最大可镀基片尺寸：112×112mm，该范围内可装卡各种规格基片：15～25mm 方形 ITO/FTO 玻璃约 16～25 片；（2）基片掩膜：随设备提供一块掩膜板（客户需需提供掩膜图案）；（3）衬底水冷：采用基片台背板通冷却循环水强制水冷； 6.蒸发源及电源：两组蒸发源；采用水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料和有机材料的蒸发源结构设计；蒸发源配隔离屏蔽罩，防止两源交叉污染且屏蔽有害热量；6.膜厚监控：采用高精度石英晶振膜厚监控仪在线监测蒸镀速率、自控膜厚； 7.蒸发电源：台蒸发电源，通过切换按钮，能实现一次真空环境两源依次蒸发；额定功率：2.3KW，恒流工作模式，最大电流 230A； 8.速率和膜厚监控：采用膜厚监控仪和开发的膜厚控制程序，蒸镀过程中实时监测蒸发速率，监控膜厚；厚度监测范围 1？～9999？，分辨率 1？；速率监测范围 0.1？～9999.9？/s，分辨率 0.1？； 9.水冷系统：水冷部件有分子泵、蒸发电极、膜厚仪探头等；配高精度冷却循环水机 1 台； 10.控制方式：PLC 手自动控制，触摸屏操作； 11.报警及保护：对分子泵、膜厚仪探头、蒸发电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的程序互锁、完备的防误操作设计及保护。 12. 特别定制：掩膜板一块。二、产品配置 1.高真空电阻蒸发镀膜设备 2.冷却循环水机； 3.速率和膜厚检测系统； 4.衬底水冷组件； 5.衬底加热组件； 6.说明书一份； 7.包装箱一套；
参考链接
售后服务	按国家法定或行业要求提供售后服务。