项目名称：高真空镀膜仪
项目编号：GY202307719
公告开始日期：2023-11-20 14:24:58
公告截止日期：2023-11-23 15:00:00
采购单位：资产与实验室管理部、国有资产管理办公室（经营性资产管理办公室）
预算总价：￥66500
收货地址：山东大学趵突泉校区小礼堂
采购商品：高真空镀膜仪
采购数量：1
计量单位：台
品牌：QUORUM
型号：Q150T S PLUS
技术参数及配置要求：1. 工作条件
1.1 电力供应：220V（±10%），50Hz，1φ
1.2 工作温度：15℃-25℃
1.3 工作湿度：< 60%
1.4 高纯氩气（出气压力4Psi），非必须条件。
2. 主要参数：
2.1、控制参数
2.1.1系统为全自动抽真空和全自动操作的沉积镀膜系统；
2.1.2系统采用电容式触摸屏和现代智能手机界面技术，双核ARM处理器， 16GB的闪存，可储存和调用1000条镀膜程序；以及1000条以上镀膜记录；
2.1.3具有帮助页和维护提醒功能，程序进行到各各阶段具有灯光提示，程序完成后具有音频声音提示；
2.1.4多等级用户权限，便于实验室设备使用管理。
2.2、真空系统：
2.2.1标配5m3/hr旋转机械泵＋70L/s涡轮分子泵（可选无油真空系统）；极限真空度：5x10-5mbar
2.2.2设备运行3分钟内镀膜腔室真空度≥10-5mbar量级；
2.2.3标配皮拉尼真空探测器，可选全量真空探测器
2.3、工作腔室：
★需使用可方便清洁和维护的圆柱形腔室，可整体拆卸，并配备安全防爆装置以及真空防污染挡板。工作腔室尺寸150mm（内径）x 127mm（高），
2.4、样品台：
标配φ50 mm旋转样品台，可10-20rpm变速旋转，工作距离38-70mm可调；
2.5、镀膜参数
2.5.1溅射镀膜：溅射电流：1-150mA，连续可调，调节步径1 mA；
★2.5.2可设定镀膜时间范围：1-3600秒，连续可调，调节步径1秒；
2.5.3溅射工作真空范围：7 x 10-3 到5 x 10-1mbar；
2.5.3膜厚监控（可选）：可根据设定膜厚自动终止镀膜，实现镀膜厚度的精确控制，膜厚读取精度≤0.1nm。
2.5.4溅射靶材：靶材尺寸φ57mm，磁控冷溅射环境，精细颗粒镀膜，标配高分辨率铬靶一块。
★2.6、全方位的电器使用安全保护
2.6.1所有电子元件都有盖子保护
2.6.2内爆防护装置可防止在工作室发生破损时对用户造成伤害
2.6.3真空互锁装置切断镀膜源的电源，确保用户在放样取样时安全
2.6.4电源顶盖打开时，电气联锁装置断电
2.6.5过热保护自动关闭电源，有效增加设备使用寿命
2.7、设备尺寸及重量
总尺寸：W*D*H 585mm×470mm×410mm （镀膜头打开时总高 650mm）
重量：约33Kg
注：带★指标为关键指标
预算单价：66500详情请访问原网页！