项目名称：高真空多靶磁控溅射镀膜机
项目编号：ZBZXJJ20240114
采购单位：四川大学
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到货时间要求：
预算总价：200000
收货地址：四川省成都市双流县川大路二段四川大学江安校区
供应商资质要求：符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购商品:高真空多靶磁控溅射镀膜机
采购数量:1
计量单位:台
预算单价:200000
技术参数及配置要求:主要技术参数： 1.真空腔室 腔体采用SUS304不锈钢制作，镀膜室内净尺寸: L440×W400×H450；方箱式，配有前、后门，前门水平滑开式，便于手套箱内操作；后门为侧开式门，用于设备清理维护；特点：镀膜室配置独立机架，可在脱离手套箱条件下单独调试，与手套箱之间通过镀膜室前门框密封连接，对接方便、密封可靠； 2.真空系统 复合分子泵+直联高速旋片式真空泵+高真空阀门+数显复合真空计； 3.真空极限 6.0×10-5Pa（设备空载，抽真空24小时）； 4.升压率 设备升压率：≤0.8Pa/h（12小时平均值）； 设备保压：停泵12小时后，设备真空度≤10Pa； 5.抽速 从大气抽至5.0×10-3Pa≤15min（设备空载）； 6.基片台 ①基片台尺寸Φ150mm，最大样品尺寸小于Φ150mm；配有基片台挡板； ②旋转转速0～20转/分钟，可调可控；基片台与腔室绝缘设计，可加偏压电源； ③加热:室温～500±1℃（基片台环境温度） ； PID智能温控闭环控温，可控可调。 7.溅射靶及电源 ①配置2套3英寸永磁共焦磁控溅射靶（靶角度、靶基距手动可调），向上溅射； 可以溅射磁性材料，磁控靶配有气动挡板结构； ②工作方式：各靶可独立/顺次/共同工作，采用磁控靶从下向上溅射镀膜； ③电源： 直流脉冲溅射电源1kW，数字化控制及显示，1台； 射频电源RF500W， 数字化控制及显示，1台； 脉冲偏压电源：-1kV， 数字化控制及显示，1台。 8.工作气路系统 质量流量控制器及量程范围：Ar，100sccm；N2，10sccm；O2，10sccm； 9.膜厚不均匀性 ≤±5%（单靶镀膜，基片台Φ120mm范围内）； 10.控制方式 PLC+触摸屏控制； 11.报警及保护 对缺水进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统； 设别主要配置： 1.真空腔室 ①结构：采用立式、方形结构，前门为水平滑开式，材质为锻铝，可位于手套箱体内部；通过门框法兰与手套箱密封对接；后门带锁紧装置，在充气条件下保持腔室密闭与大气环境隔离；前开门便于蒸发材料和样片在保护环境下装卸，后开门便于真空室的清理维护； ②材料及尺寸：采用304优质不锈钢， L400×W440×H450mm真空腔室； 镀膜腔室（包括管道、连接法兰等）均进行清洁处理，内表面电抛等处理，以减少“出气”量，有利于真空度的提高及耐腐蚀； 所有焊缝连接采用氩弧焊接技术，内表面抛光处理； ③主要接口分布位置 3英寸磁控溅射靶及挡板接口位于腔室底部； 基片台接口、基片台挡板接口、DN10mm电磁放气阀接口、基片台加热器组件接口等从腔室顶部引入； DN150mm抽气管道接口位于腔室左侧； ④预留接口：用于功能升级或其它用途； ⑤φ100 mm观察窗，配磁力挡板，安装于前后门上； ⑥腔室防污屏蔽板采用优质不锈钢材质，便于拆卸清理、更换等。 2.基片台 功能：实现对样品旋转均匀镀膜，对样品均匀加热除气，通过样品台绝缘设计，可加载负偏压对样品进行离子轰击，清洁样品表面，提供膜基结合力； ①基片台：不锈钢抽屉式结构，基片台尺寸Φ150mm，最大样品尺寸小于Φ150mm； 可从基片架组件中取出，方便用户安装基片； ②配有气动基片台挡板； ③配备通用夹具，方便用户装卡各种不同规格尺寸的基片； ④绝缘装置：绝缘设计及绝缘件； ⑤基片台电机驱动：旋转转速0～20转/分钟，连续可调；主轴磁流体密封； ⑥加热：基片台环境温度500℃，采用铠装加热器及绝缘、屏蔽等，具有真空条件下加热快、抗氧化、寿命长等优点； 采用功率调整器和PID可编程智能温度控制仪方式，可以设定分段升温,速率、保持温度、保持时间；通过热电偶的反馈信号，实现加热温度自动控制； ⑦预留腔室环境加热接口。 3.溅射靶及电源 ①2只3英寸磁控溅射靶，靶角度、靶基距手动可调，永磁间接水冷方式，兼容直流、脉冲、射频等电源； ②靶基距调整范围80～110mm，方便调整最佳镀膜距离； 可溅射磁性材料，镍靶材3.0㎜厚，非磁性材料5㎜厚； ③各溅射靶配独立挡板，防止交叉污染； ④电源： 直流脉冲溅射电源1kW，数字化控制及显示，1台； 射频电源RF500W， 数字化控制及显示，1台； 脉冲偏压电源：-1kV， 数字化控制及显示，1台。 4.真空系统 ①真空机组采用“复合分子泵+直联高速旋片式真空泵”组合的真空系统； ②复合分子泵：抽速700L/s； ③直联高速旋片式真空泵：抽速9L/s； ④前级/旁路阀：DN40，气动挡板阀； 主阀：DN150，气动插板阀； 放气阀：φ10，电磁截止阀； ⑤真空测量：“两低一高”数显复合真空计； 两低一高是指两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空； 测量范围：从1.0×105Pa到1.0×10-5Pa； ⑥波纹管材质：SUS304不锈钢； 真空密封：常拆卸密封采用氟橡胶圈密封，不常拆卸密封采用金属密封。 5.工作气路系统 ①质量流量控制器及量程范围：Ar，100sccm；N2，10sccm；O2，10sccm； ②电磁截止阀：Φ6mm ； ③混气管：三进一出； ④气管：EP管道，内外抛光金属管。 6.水路系统 ①给分子泵、磁控靶配备独立的进、出水，可保证设备长时间稳定运行； ②总进水设有检测水温水压装置，检测水温水压状态，执行异常报警； ③总进、出水采用标准的水路宝塔接口连接用户现场供水系统。 7.气路系统 ①电接点压力表，用于气体压力保护报警； ②气排，用于各阀门之间分气使用。 8..电气控制系统 ①电气控制系统：采用PLC+触摸屏控制系统，可实现自动一键式抽真空，蒸发镀膜电源采用手动控制，以方便用户进行镀膜工艺参数的摸索； ②控制内容：分子泵、机械泵、阀门开关；分子泵电源参数显示及开关控制；真空计参数显示及控制；基片台转速显示和控制； ③安全保护报警系统：在缺水、水压过低等情况下的报警系统；完善的逻辑程序互锁保护系统。 9.控制柜与机架 机架和控制柜一体化设计，碳钢制作，表面喷塑处理，支撑真空腔体、真空系统及电气控制系统，底下配脚轮，方便移动、定位。
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