申购单号：CB119422021004702 签约时间：发布中标结果后7天内签约合同
申购主题：GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪 送货时间：合同签订后30天内送达
采购单位：中南大学 安装要求：免费上门安装（含材料费）
报价要求：国产含税 收货地址：湖南省/长沙市/岳麓区/****
发票类型：增值税普通发票
币种：人民币
预算：******
付款方式：货到验收合格后付款
备注说明：
申购明细：
序号 采购内容 数量 预算单价
1 GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪 1.0台
品牌 北京格微仪器有限公司
型号 GVC-2000T
规格参数 系统采用ARM或单片机等微处理器控制，全数字显示，中文操作界面；彩色液晶屏显示，触摸屏操作，屏幕尺寸不小于7英寸；真空室内径不小于150mm，高度不低于100mm； 最大溅射电流不小于180mA，最小溅射电流不大于5mA，步进量为5mA; 采用涡轮分子泵和旋片真空泵组合的真空泵组作为抽气单元，其中涡轮分子泵的抽速不小于80L/s； 系统可实时显示分子泵转速、电压、电流、轴承温度等工作参数； 系统极限真空优于5E-3Pa； 最长溅射时间不小于999秒； 10.具备可旋转样品台，转速可调，最高转速不小于20转/分； 具备预溅射挡板，确保镀膜纯度，减少污染。 内置不少于10种靶材溅射参数，包括金、铂、铬、钨、钛、铝、镍等常用靶材；可设定：（1）溅射电流；溅射时间；靶材种类；屏幕亮度等参数； 可显示：溅射电流；）溅射剩余时间；工作真空度；靶材累计使用时间；设备累计使用时间；分子泵转速、轴承温度、工作电流、电压；当前使用靶材种类；工作方式等参数。溅射电流：-180mA连续可调，最小步长为5mA； 5.溅射时长：1-999s连续可调，最小步长为1s; 可用溅射靶材：所有金属靶材、ITO靶； 真空室采用高透光性的高硅硼玻璃，尺寸约为φ200×130mm； 可容纳最大样品杯直径为φ120mm； 高真空泵：进口涡轮分子泵，抽速为90L/s； 10.低真空泵：旋片式真空泵，抽速为1L/s; 11.真空规管：进口复合规，量程为1E-3Pa到1E5Pa； 12.系统极限真空：＜5E-3Pa； 系统工作真空：0.1-5pa（根据靶材不同，工作真空不同）； 1工作模式：具备自动和手动两种工作模式，可在系统内设置； 样品台旋转：4-40rpm可调； 具备预溅射挡板，在溅射开始时，先对靶表面进行清洁，此时挡板闭合；开始工作时，挡板自动打开，提供镀膜纯度； 具备溅射电流和真空度双重互锁，安全可靠，任一条件触发，系统即可停止工作，防止因为误操作导致设备损坏
质保及售后服务 按行业标准提供服务