1. 1.至少满足明场、暗场、偏振光、微分干涉、正像观察模式。 2. 无限远长工作距；明暗场荧石半复金相物镜： 5X： NA≥0.15, WD≥20mm，分辨率≤1.8um； 10X： NA≥0.30, WD≥11mm，分辨率≤0.9um； 20X： NA≥0.45, WD≥3.0mm，分辨率≤0.6um； 50X： NA≥0.8 WD≥1.0mm 分辨率≤0.34um； 100X： NA≥0.90 WD≥1.0mm 分辨率≤0.31um。 3. 至少具备从12.27µm到0.4µm的景深范围; 光学放大倍数至少满足50X-1000X。 4.铰链式三通观察筒，瞳距调节范围：50mm 至 76mm；分光比可调，三目模式为 100:0 和 50:50。 5. 5孔明暗场物镜转换器（带DIC插槽）。 6. 透反射用机架、低手位粗微同轴调焦机构；粗调行程 ≥ 35mm、微调精度 ≤ 0.001mm；带有防止下滑的调节松紧装置和随机上限位装置。需内置 100-240V 宽电压系统。 7.平台面积至少满足 310mm x240mm；移动行程:至少满足150mmX100mm；机械平台X、Y方向同轴调节。 8. 明暗场反射照明器：带可变孔径光阑，视场光阑，中心可调，带滤色片插槽、带起偏镜/检偏镜插槽，带微分干涉组件，5W可调LED灯室，透反射通用，预定中心。 9.配置2000万像素显微相机，需包含拍照、录像、测量、实时图像拼接、景深融合等功能；配置品牌电脑主机和显示器。 10. 软件至少满足以下功能：微纳加工中样品形貌初步观察和质量控制、纹痕进行对比观测；可通过对显微组织图像中具有代表特征的晶粒的粒径、粒距进行测量而判断等级；软件可包含用户管理、权限分配及审计追踪功能等。 11.几何尺寸测量：可以测量显微图像的任意长度，如颗粒直径、孔径、划痕宽度、纤维直径等。 12.高精度型测微尺，格值0.01m 总长1mm。