项目名称	多靶磁控溅射镀膜设备	项目编号	XHGD-CG-2024118
公告开始日期	2024-03-25 11:13:32	公告截止日期	2024-03-27 13:00:00
采购单位	西湖大学光电研究院	付款方式	合同签订预付50%，验收合格后付50%
联系人	成交后在我参与的项目中查看	联系电话	成交后在我参与的项目中查看
签约时间要求		到货时间要求	签约后60个自然日
预算总价	￥ 490000.00 + NaN + NaN
发票要求	增值税普通发票 增值税专用发票
含税要求
送货要求
安装要求
收货地址	杭州市富阳区富春湾新城西湖大学光电研究院
供应商资质要求	符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件
公告说明

采购清单1

采购商品	采购数量	计量单位	所属分类
多靶磁控溅射镀膜设备	1	台	无 无

品牌 品牌1
型号
品牌2
型号
品牌3
型号
品牌4
型号
品牌5
型号
品牌6
型号
预算单价	￥ 490000.00
技术参数及配置要求	1. 真空腔室：净空间尺寸不大于Φ550×H500mm，要求前开门，前门需配备观察窗，观察窗玻璃尺寸不小于Φ95mm；配至少一套方便拆卸的防污隔板；腔室、法兰、管道、防污隔板等均采用304无磁不锈钢材质； 2. 真空系统：主泵分子泵抽速不小于2500m3/h，双级旋片泵抽速不小于30m3/h，全量程数显复合真空计量程：1×105～1×10-5Pa； 3. ▲真空极限：优于2.3×10-7Torr； 4. ★抽速：抽至3.7×10-6 Torr≤20min； 5. ▲基片台：根据客户要求定制的基片台，最大可处理基片不小于4英寸，基片台配一体式全尺寸挡板，挡板开合需要磁流体密封；基片台需要设计旋转：旋转速度0-25转/分连续可调，基片台旋转需要磁流体密封；基片台加热：PID智能温控表，控温范围室温～600℃； 6. ★阴极靶：不少于3只2英寸圆形平面靶，需采用原装进口品牌，靶头内部需采用全金属密封，不得采用胶圈密封，以满足超高真空应用。靶材安装不需要固定压环，暗区屏蔽装置高度低于靶材表面，减少对辉光区域的束缚，并降低靶材之外材料被同时溅射出来的几率。靶头可调整角度不小于±45°，可单靶轮流/多靶聚焦共溅射； 7. 溅射电源：直流电源和直流脉冲电源各1台，要求可切换恒压，恒流，恒功率控制模式，电源功率可以预先设置；射频电源1台，要求自动匹配； 8. 靶挡板：靶上有气动水平打开式挡板，角度与靶倾斜角度同步可调，要求磁流体密封； 9. 气路系统：不少于三路工艺气体MFC 控制，量程范围需满足工艺制备金属、金属氧化物的需要；要求氩气准确度不低于±0.8sccm；其他工艺气体准确度不低于±0.5sccm； 10. 操控系统：PLC+触摸屏手自一体操控系统，触摸屏不小于15英寸，真空系统的控制分为手动和自动二种模式，自动模式下，根据腔内压强自动执行相关泵，阀的启闭；可远程监控，软件使用期限：永久有效； 11. 其它：冷却循环水机1台，制冷量不小于1P；镀膜设备及外围设备（冷水机等）总占地面积不超过1平米；
参考链接
售后服务	服务网点:当地;电话支持:7x24小时;服务年限:三年;服务时限:报修后2小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:两年;

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