“清华大学XeF2干法释放刻蚀设备”项目（项目编号：清设招第2019290号） 组织评标工作已经结束，现将评标结果公示如下：

一、项目信息

项目编号：清设招第2019290号

项目名称：清华大学XeF2干法释放刻蚀设备

项目联系人：李美珍，杨 晶

联系方式：62785713

二、采购单位信息

采购单位名称：清华大学

采购单位地址：清华大学实验室与设备处老环境楼101C办公室

采购单位联系方式：联 系 人：李美珍 ，杨 晶；联系电话：62785713

三、项目用途、简要技术要求及合同履行日期：

该刻蚀系统主要用干法技术进行各向同性的硅、锗或钼的蚀刻，主要用于MEMS领域的牺牲层释放，刻蚀保护层一般选择光刻胶、硅氧化物或铝。

四、中标信息

招标公告日期：2019年10月25日

中标日期：2019年11月22日

总中标金额：158.0 万元（人民币）

中标供应商名称、联系地址及中标金额：

中 标 人：慧创（北京）仪器设备有限公司

地 址：北京市昌平区立汤路60号2栋3-101

中标金额：158万元人民币

本项目招标代理费总金额： 万元（人民币）

本项目招标代理费收费标准：

评标委员会成员名单：

谢 亮、刁宏伟、于中尧、蔡一茂（前述均为自选专家）、王 谦

中标标的名称、规格型号、数量、单价、服务要求：

XeF2干法释放刻蚀设备1套

五、其它补充事宜