申购单号：CB190272021000437成交总额：477800.0
申购主题：高真空磁控溅射薄膜沉积系统采购 送货时间：合同签订后7天内送达
采购单位：北京师范大学珠海分校 安装要求：免费上门安装（含材料费）
竞价开始时间：2021-11-01 21:26:02 收货地址：
竞价截至时间：2021-11-08 08:00:00
币种：人民币
付款方式：货到验收合格后付款
备注说明：
质疑说明：如果对成交结果有异议，请在发布成交结果之日起三个工作日内向采购单位提出质疑
竞价结果：
采购项：PVD沉积镀膜控制系统 品牌： 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 型号： V2.3
成交总价：78900.00
成交供应商：杭州富阳伟锐仪器仪表经营部
质保及售后服务： 按行业标准提供服务 要求2022年3月31号前完成送货上门，并进行安装和调试，同时完成仪器使用培训等服务。质保1年，1小时售后响应，24小时内售后人员到达现场处理，需上传厂家售后承诺函
技术参数： 系统由工业级工控机和PLC控制，有自动控制和手动控制两种功能，采用 自动控制： 1、样品完成安装后，系统具有自动工艺参数运行功能，设定好目标真空度、样品目标加热温度时长等内容、溅射电源工作参数，系统自动开始抽真空，达到目标真空度后开始加热，达到目标温度后，根据设定的功率开启溅射电源，溅射时间以设定的工作参数为准； 2、同时对溅射电源的功率和溅射时间可以设定多个数值，实现不同输出功率、不同镀膜时间的控制，进而实现单靶溅射、多靶轮流溅射； 3、系统检测工艺试验结束后自动通入保护气体，破除真空，并提醒工艺结束。 手动控制： 即实验过程的点动控制，操作对象包括： 1、旁抽阀、前级阀、插板阀、放气阀的开关； 2、机械泵和分子泵的启停； 3、烘烤照明的开关； 4、样品挡板的开关； 5、样品自转速度的设定； 6、样品加热目标温度的设定； 7、设定溅射功率； 8、设定气体流量。。 系统提供工艺参数记录和分析，参数具有导入和导出功能。 历史工艺参数自动调取执行。 需包含供电模块、加温模块、测温模块、器件转动模块、溅射电源 直流溅射电源功率不低于500w 射频溅射电源功率不低于500w； 包含不低于17英寸触控屏，控制软件为正版软件，需提供著作权证明文件； 程序需提供自助编程功能，要求对工艺存档不低于一个月；
竞价结果：
采购项：高真空磁控溅射薄膜沉积系统 品牌： 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 型号： TRP450
成交总价：398900.00
成交供应商：杭州富阳伟锐仪器仪表经营部
质保及售后服务： 按行业标准提供服务 要求2022年3月31号前完成送货上门，并进行安装和调试，同时完成仪器使用培训等服务。质保1年，1小时售后响应，24小时内售后人员到达现场处理，需上传厂家售后承诺函
技术参数： 一、系统功能及构成 该系统为单室结构，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、加热系统、直流电源、射频电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和控制系统等部分组成，可用于金属薄膜、介质膜等的制备。 二、系统的主要组成及技术指标 溅射室极限真空度：≤6.6x10-6Pa（经烘烤除气后）；（洁净真空环境） 系统从大气开始抽气：溅射室25分钟可达到6.6x10-4 Pa；（抽速快，缩短实验准备时间） 系统停泵关机12小时后真空度：≤10Pa； 1、溅射真空室 真空室为圆筒形前开门结构，尺寸Ф450mmx400mm，全不锈钢结构。可内烘烤到100～150℃，选用不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行电化学抛光国内首家钝化处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；手动前开门结构；靶安装在下底盘，基片转台在上盖板（也可以设计为靶在上、基片台在下的结构方式）。 真空室组件上焊有各种规格的法兰接口如下： 1.1、Dg100法兰接口：1个（观察窗口）； 1.2、Dg16法兰接口：5个（进气阀、放气阀、热偶规管，电极引线，备用1个）； 1.3、Dg35法兰接口：5个（电离规管、旁抽阀、外照明、备用2个）； 1.4、Dg150法兰接口：1个（接分子泵）； 1.5、Dg300法兰接口：1个（用来安装磁控靶和靶挡板） 1.6、Dg300法兰接口：1个（用来安装样品台） 2、磁控溅射系统：3套 2.1、靶材尺寸：60mm（可兼容2英寸靶材）； 2.2、提供靶材：不锈钢、钛、铁各一块（仅供测试靶材用）； 2.3、永磁靶（其中一个可溅射磁性材料），射频溅射与直流溅射兼容，靶内水冷； 2.4、每个靶都配备气动控制挡板组件1套； 2.5、靶在下，向上溅射，具有单独溅射、轮流溅射、共溅射功能； 2.6、暴露大气下，磁控靶可手动调节共溅射角度； 2.7、500w直流电源，2台； 2.8、500w全自动调谐射频电源，1台； 2.9、磁控靶与基片的距离可调，调节距离为：90~130mm。 3、旋转加热基片台 3.1、基片尺寸和数量：最大可放置1片4英寸圆形样品； 3.2、基片通过进口加热丝加热方式，加热炉加热温度：室温～800°C，连续可调；加热装置在真空室上法兰上，对基片托板进行加热，通过热电偶控制控温电源实现闭环控制，系统由加热器和1个加热控温电源组成，加热电源配备日本进口控温表，控温方式为PID自动控温及数字显示； 3.3、基片自转速度5～20转/分连续可调； 3.4、气动控制样品挡板组件 1套； 3.5、样品台安装-200V偏压电源（辅助沉积）。 4、窗口及法兰接口部件 4.1、Dg100玻璃窗口：1块，带衬玻璃；Dg35外照明玻璃窗口：1块，带衬玻璃； 4.2、Dg16陶瓷封接引线法兰：1个（内烘烤引线）； 4.3、盲法兰：Dg16：1个；Dg35：2个。 5、工作气路 5.1、100SCCM、20SCCM质量流量控制器、Dg16截止阀、管路、接头等共3路；经过混气室，由Dg16进气阀往真空室内充入工作气体。 5.2、Dg16放气阀、管路、接头等：1路（解除真空充入氮气）； 6、抽气机组及阀门、管道（此配置抽速快、真空度高） 6.1、脂润滑分子泵及变频控制电源（700L/S）：1台； 6.2、旋片真空泵（8L/S）：1台； 6.3、插板阀CF150：1台（用于复合分子泵与真空室隔离）； 6.4、旁抽角阀DN40：1台； 6.5、高真空挡板阀DN40：1台； 6.6、电磁压差式充气阀DN40：1台。 6.7、分子泵与机械泵软联接金属软管：1套； 6.8、机械泵与真空室之间的旁抽管路：1套； 7、安装机台架组件 优质铝型材拼装成，快卸围板表面喷塑处理；机台表面用不锈钢蒙皮装饰；四个脚轮，可固定，可移动。 8、真空测量：采用数显真空计进行测量，测量范围：1x105Pa-5x10-7Pa. 工艺真空测量：采用薄膜压强真空规进行测量，测量范围：13Pa-0.013Pa.