公告摘要
项目编号-
预算金额213万元
招标公司-
招标联系人-
标书截止时间-
投标截止时间-
公告正文

  为便于供应商了解采购信息,根据《物资服务集中采购需求管理暂行办法》等有关规定,现将材料高通量制备教学训练平台的采购意向公开如下:

序号 采购项目名称 需求概况 初步技术参数 预算金额(万元) 预计采购时间 备注
1 材料高通量制备教学训练平台
采购内容:材料高通量制备教学训练平台1套,包括3个系统:材料快速制备演示系统1套(预算25万元),材料表征实训系统1套(预算29万元),材料计算、设计优化演示系统1套(预算159万元)。
采购数量:1套
主要功能或目标:平台主要用于满足教学和科研需求,主要功能涉及材料基因组理论教学演示,多种材料高通量制备的教学演示,材料微观结构和性能表征的教学演示,以及材料设计优化的教学演示等。
需满足的要求:可开展材料制备、预/后处理的教学讲解与演示,以及材料微观结构与性能测试表征的实验演示。
1 材料快速制备演示系统,主要需要1台惰性气体手套箱,技术参数为: (1)双工位; (2)水、氧含量低于1ppm; (3)可在氮气、氩气等气体下工作; (4)具有气体循环净化系统,可全自动控制实现箱内气体快洗; (5)氧探头检测范围为0-1000 ppm,水探头检测范围为0-500 ppm; 2 材料表征实训系统,主要需要一台材料切割设备,技术参数为: (1)功率不低于2700W; (2)最低主轴转速不高于300rpm,最高主轴转速不低于6000rpm; (3)位移:Y轴不小于250mm,Z轴不小于60mm; (4)可切直径不小于50mm圆柱、不小于50*180mm方体; (5)切割可视化、自动化,切割安全性高; (6)具备多种切割模式,可实现个性化切割组合; 3 材料计算、设计优化演示系统,主要需要一台磁控溅射真空镀膜设备,技术参数为: (1)主腔室:本底真空优于8×10-6 Pa,可实现与其他真空镀膜系统互联; (2)气路系统:包含氩气、氧气、氮气至少3个工艺气路和1个氮气放气气路; (3)样品台:基片尺寸可达2英寸,最低可加热至900℃,基片可在Z方向移动和沿phi轴转动; (4)4套靶枪,其中至少包含1套强磁场靶枪; (5)配备高压反射电子衍射(RHEED)系统; (6)具有成熟的操控软件系统,可控制温度、位移、气体流量、镀膜程序等; (7)配备水冷系统。 213.00 2024年09月

  注:1.本次意向公开的采购意向仅作为供应商了解初步采购安排的参考,采购项目具体情况以最终发布的采购公告和采购文件为准;

         2.供应商可以通过采购平台反馈参与意向和意见建议。


  联系人:李女士

  联系方式:13161890701


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