数据更新时间  2024/09/18 16:21:11

蚌埠雷诺真空技术有限公司

雷诺
融资轮次被收购
成立时间2007/04/06
注册资本3000万人民币
法人代表孙嵩泉
参保人数6 人
公司官网www.renovacuum.com.cn
企业性质外商投资企业
所属园区-
注册地址安徽省蚌埠市东海大道6318号
办公地址-
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业务简介
蚌埠雷诺真空技术有限公司其中包括多名经验丰富的海内外从事真空类设备开发多年的优秀人才,公司主要经营范围为中高端半导体工艺和真空镀膜设备的设计、加工、制造、工艺开发以及系统集成,包括磁控溅射镀膜设备(Sputter),增强型等离子体化学气相沉积设备(PECVD),金属-有机物化学气相沉积设备(MOCVD),原子层沉积设备(ALD),离子束沉积设备(IBD),以及二氧化锡(SnO2)透明导电玻璃生产设备。
主营业务
业务名称业务画像
业务简介
雷诺真空技术
蚌埠雷诺真空技术有限公司其中包括多名经验丰富的海内外从事真空类设备开发多年的优秀人才,公司主要经营范围为中高端半导体工艺和真空镀膜设备的设计、加工、制造、工艺开发以及系统集成,包括磁控溅射镀膜设备(Sputter),增强型等离子体化学气相沉积设备(PECVD),金属-有机物化学气相沉积设备(MOCVD),原子层沉积设备(ALD),离子束沉积设备(IBD),以及二氧化锡(SnO2)透明导电玻璃生产设备。
股东信息3
股东名称出资比例认缴出资金额认缴时间
60%1800万元人民币-
美国普乐光技术有限公司
20%600万元人民币-
20%600万元人民币-
组织成员
企业业务1
业务名称业务画像
业务简介
雷诺真空技术
蚌埠雷诺真空技术有限公司其中包括多名经验丰富的海内外从事真空类设备开发多年的优秀人才,公司主要经营范围为中高端半导体工艺和真空镀膜设备的设计、加工、制造、工艺开发以及系统集成,包括磁控溅射镀膜设备(Sputter),增强型等离子体化学气相沉积设备(PECVD),金属-有机物化学气相沉积设备(MOCVD),原子层沉积设备(ALD),离子束沉积设备(IBD),以及二氧化锡(SnO2)透明导电玻璃生产设备。
企业舆情34
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工商信息
收起
企业名称蚌埠雷诺真空技术有限公司
公司官网www.renovacuum.com.cn
曾用名-
法人代表孙嵩泉
成立时间2007/04/06
注册资本3000万人民币
公司估值-
企业类型有限责任公司(外商投资、非独资)
注册号340300400001140
机构代码79983103-1
信用代码91340300799831031T
经营状态
存续
注册地址安徽省蚌埠市东海大道6318号
登记机关蚌埠市高新区市场监督管理局
经营范围
一般经营项目:二氧化锡透明导电玻璃生产线设计、制造与二氧化锡透明导电玻璃的生产与销售;非晶硅薄膜太阳能光伏发电系统设备的设计、制造与销售;高精度石材加工设备的设计、生产与销售;真空镀膜设备的生产和销售。
组织成员
企业联系方式
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电话4
邮箱6
招标电话0
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