公告摘要
项目编号sustech-jc-2023-00950
预算金额70万元
招标公司南方科技大学
招标联系人-
标书截止时间-
投标截止时间-
公告正文
南方科技大学 
 
SUSTech-JC-2023-00950
竞采采购公告
项目名称 反应离子刻蚀机采购项目
项目编号 SUSTech-JC-2023-00950
项目类型 货物类
成交方式 最低价成交
采购方式 公开竞采
公告开始时间 2023-06-25 17:23:50
公告结束时间 2023-06-30 17:23:50
预算(元) 700000.00
项目预算是否含税 国产含税
备注




序号 名称 数量 单位
1
反应离子刻蚀机(核心货物)
1

品牌
无推荐品牌
型号
无推荐型号
技术规格及参数

设备功能:用于制备微纳结构和减层刻蚀, 适用于二维材料如金属硫族化合物、WTe2、MoS2、石墨烯等二维材料逐层减层刻蚀和图形化刻蚀;适用于硅基材料如单晶硅、多晶硅、氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiO2)、石英(Quartz)以及碳化硅(SiC)等材料的图案化蚀刻;可用于有机材料如光刻胶、PMMA等材料的图案化与材料去层蚀刻。
工艺腔
1、样品台:4英寸圆片,兼容2英寸圆片以及碎片
*2、偏置功率源:固态13.56 MHz射频电源0~100 W可调,最大满功率不大于100 W,输出功率1~100W可调,最小稳定工艺功率3 W,功率调节精度0.1 W
3、样片控温范围:5 ℃~室温,控温精度±1 ℃
*4、工艺腔材质为半导体级铝材,内径不大于350mm,内壁经耐腐氧化处理
*5、工艺腔内壁带有内衬,内衬表面经耐腐氧化处理
传输腔
1、传输腔一套,预留大气样片传输口与手套箱传输口
2、真空机械手一套
真空泵组
1、分子泵:抽速大于600 L/s
2、前级泵:抽速大于10 L/s机械泵
3、工艺真空规:采用电容薄膜规测量
气路系统
1、气体种类:三路工艺气体O2, Ar, CF4,一路吹扫气体N2,一路CDA
2、气体量程:O2, Ar, CF4, CHF3, SF6: 0~300 sccm
*3、采用质量流量计(MFC)控制气体流量,MFC采用数字通讯,金属密封,MFC支持在线更改气体种类与气体量程,气体管路接头采用进口接头,MFC前后端设置气动隔膜阀
控制系统
1、控制系统:采用基于Windows的工控机作为控制系统主机
2、控制软件:基于C 语言全自动控制流程,带有recipe 菜单,日志与数据记录,异常报警与处理,登录权限管理
3、采用15英寸触摸屏显示器作为人机交互界面,可实现用户等级与操作权限管理;自动运行与工程维护界面模块;实时显示机台状态;日志管理功能,工艺过程参数记录、机台事件记录以及机台警报与异常记录,生成Log文件;动作互锁功能;工艺菜单编辑功能;机台异常处理功能;单次刻蚀,支持多步刻蚀。
*5、安全控制系统带有安全互锁与急停机制(EMO);带有机台异常处理机制;
工艺指标
*1、刻蚀速率:二维材料:0.3~2 layer/min(慢速逐层刻蚀),1 nm~30 nm/min(快速图形化刻蚀),硅基材料:5~20nm/min,PR材料:5~50nm/min
2、二维材料逐层减层刻蚀离子最小能量不大于10 eV
3、刻蚀均匀性:<±5%(@四英寸去除边缘效应)
所响应产品必须是全新、未使用过的原装合格正品(包括零部件),如安装或配置了软件的,须为正版软件
质保期
验收合格后12个月
售后要求
中标人提供报修电话及联系人,招标人保修后,24小时内响应,72小时内提供远程诊断和指导。

付款方式 4.合同生效并收到相应发票后支付合同总额的50%作为进度款;材料到达指定安装现场且安装、调试验收合格并提供全额发票后支付合同总额的50%.
交货期 合同签订后150天(自然日)内,具体时间根据学校要求提前3天(自然日)通知送货

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