电子科技大学 - 竞价公告 (CB106142023000016)
发布时间：2023-04-11 10:27:53 截止时间：2023-04-14 10:37:38
基本信息：
申购主题：SG2023001531001高真空磁控溅射薄膜沉积系统
报价要求：国产含税
发票类型：增值税专用发票
付款方式：货到验收合格后付款
送货时间：合同签订后120天内送达
安装要求：免费上门安装（含材料费）
预算：450,000.00 (元)

收货地址：四川省/成都市/郫都区/****
备注说明：
申购明细：
序号
1
采购内容
SG2023001531001高真空磁控溅射薄膜沉积系统
数量
1
预算单价
450000
品牌
　
型号
　
规格参数
设备功能：
（1）主要应用在冶金、半导体、光伏领域；可以镀制金属、化合物、复合膜、介质膜等；
（2）镀膜指标：可实现2英寸样品镀制氮化镓膜5μm，均匀性±5%；金刚石膜1mm，均匀性±3%；且需保证能沉积得到质量较高的氧化物薄膜。
设备构造：
设备需包括溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分，且需要有4个溅射靶位，有预真空室，2个直流源，2个射频源，且射频溅射与直流溅射兼容，靶内有水冷，向上溅射成膜；基片本身可加热且最高温度能达到600度，能垂直向斜上溅射，靶与样品距离90～130mm可调，并有调位距离指示；450腔体能实现4靶公溅。
极限指标：
(1) 溅射室极限真空度：≤6.67X10^(-6) Pa (经烘烤除气后);
(2)系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气：溅射室40分钟真空度可达到6.6X10^(-4) Pa；
(3)溅射室停泵关机12小时后真空度：≤5Pa；
质保及售后服务
最终验收合格后一年内由乙方负责免费维修设备正常使用出现的故障；非正常使用出现的故障，乙方维修需要核收工本费；一年后的终身维修乙方核收差旅费和工本费。
附件