中标
离子源辅助多靶磁控溅射系统（JJ21000957）成交结果公告
金额
37.5万元
项目地址
-
发布时间
2021/10/18
公告摘要
公告正文
| 成交供应商： | 沈阳七勤精工科技有限公司 |
|---|
| 成交金额： | 375000.0 |
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| 选标理由： | 符合要求，价格最低 |
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离子源辅助多靶磁控溅射系统（JJ21000957）成交结果公告
| 项目名称 | 离子源辅助多靶磁控溅射系统 | 项目编号 | JJ21000957 |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 2021-10-18 | 公告截止日期 | |
| 采购单位 | 东北大学 | 付款方式 | 预付30%货款余款货到验收合格后支付 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 成交后7天 | 到货时间要求 | 签约后3天 |
| 预算 | 390000.0 | ||
| 收货地址 | 辽宁省沈阳市和平区文化路三巷11号EPM108室 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 离子源辅助多靶磁控溅射系统 | 1 | 台 | 机电设备 |
| 品牌 | 无 |
|---|---|
| 型号 | 无 |
| 技术参数及配置要求 | 1. 用于氮化物超硬涂层的开发和生产，本设备适用于涂层工艺开发和涂层小批量稳定量产。 2. 超硬涂层硬度≥3200Hv、结合强度≥100N、低应力涂层、生长速率≥2μm/h。 3. 需配有4个矩形平面靶，靶与样品距离80～150mm可调。可生长打底层；可双靶同时生长合金层并同时可掺杂绝缘介质或纯金属。具有偏压清洗和离子刻蚀功能。 4. 配中频磁控溅射电源1套，功率≥10KW，脉冲偏压电源1套，功率≥5KW，离子源电源1套，功率≥5KW，均采用进口AE或同等进口品牌，其余配件均选用国内外知名品牌。 5. 样品加热最高温度500°C±1°C，由热电偶闭环反馈控制。 6. 工件架在均匀区内可承载尺寸为φ10mm×150mm的样件不少于30根。样件在500°C范围内可公转可自转，转速可控。 7. 配备国产顶级分子泵和机械泵真空系统。极限真空度≤2×10-4Pa。真空漏率≤5.0×10-7Pa？L/s。25分钟可达到5×10-3Pa。停泵关机12小时后真空度≤5Pa。 8. 真空室采用圆筒型前开炉门结构，双层水冷，全不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺电解抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封。 9. 采用工控机控制系统，可手动或自动控制。 |
| 售后服务 | 服务网点:本地（沈阳）;电话支持:7x24小时;服务年限:1;服务时限:报修后12小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保一年，终身维护，只收成本费。; |
公告来源：
https://www.yuncaitong.cn/publish/2021/10/18/20KUWCMQ0Z4PE3EQ.shtml
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