中标
原子层沉积系统（GY201905852）成交结果公告
金额
18万元
项目地址
山东省
发布时间
2019/09/05
公告摘要
公告正文
成交供应商：
江苏迈纳德微纳技术有限公司
成交金额：
180000.0
选标理由：
根据用户意见，中标供应商能够更充分满足用户功能需求。
原子层沉积系统（GY201905852）成交结果公告
| 项目名称 | 原子层沉积系统 | 项目编号 | GY201905852 |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 2019-09-04 14:17:00 | 公告截止日期 | |
| 采购单位 | 山东大学 | 付款方式 | 国产设备与家具：货到验收合格后付款 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 到货时间要求 | ||
| 预算 | 180000.0 | ||
| 收货地址 | 山东大学青岛校区N5楼 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 原子层沉积系统 | 1 | 台 | 机电设备 |
| 品牌 | 迈纳德 |
|---|---|
| 型号 | MNT-S100-L3S1 |
| 技术参数及配置要求 | 原子层沉积设备（4寸3液1固，预留2路液源） 一、配置及组成 原子层沉积设备至少包含以配置 1） 1套热型原子层沉积设备主机 2） 1套热型反应腔 3） 2套常温液源管路 4） 2套加热源管路 5） 1套用于吸附残留前驱体源的热阱 6） 1套机械泵 二、技术规格参数： 2.1 总体性能 1） 适用于标准的实验室环境条件，对实验室环境条件无特殊要求和限制； 2） 控制系统：PLC+触摸屏。 3） 设备可用于沉积单一薄膜、纳米叠层与梯度薄膜的沉积和掺杂质等；可在纳米孔洞、台阶等高深宽比的纳米结构上沉积薄膜，具有良好的台阶覆盖性； 4） 样品上沉积氧化铝薄膜膜厚非均匀性≤±1%，具体见验收指标。 5） 可制备的材料：如Al2O3、HfO2等各类金属氧化物薄膜，以及镍铜等部分金属薄膜。提供满足以上材料的前躯体材料名称以及满足所制备材料的要求，提供相应材料的工艺菜单。 2.2反应腔系统： 1） 样品台直径4英寸（100mm），高度≥10 mm。可以生长4英寸及以下尺寸样品。 2） 反应腔采用内外双层加热器设计，PID 控温，样品台加热温度室温至400℃可控，控制精度±1℃。 3） 腔室本底真空可达到1Pa，满足原子层沉积系统的要求。 4） 腔体只需变更腔盖，原系统无需返厂改动即可完成等离子体系统升级。 5） 多种沉积模式：可以在不同的基片上沉积薄膜，包括平面基片和高纵深比样品，且可以实现氧化物精确比例掺杂沉积，如可实现制备AZO等. 2.3前驱体源输送系统 1） 配备4路前驱体源主管路，其中2路用于常温高前驱体源输送，2路用于加热前驱体源输送； 2） 预留2路前驱体管路，以备后期升级。 3） 前驱体源主输送主管路要求配备加热套，所有管路均包裹在加热套中，最高加热温度可达200℃。配置温度传感器，温度控制精度满足±1℃； 4） 每路管路配备Swagelok ALD专用阀门，加热器内置于阀座内，最高加热温度可达200℃，温度控制精度满足±1℃。ALD阀门外部配备保温套； 5） 工艺气体管路采用电抛光不锈钢材料，接头必须采用VCR金属密封； 6） 载气管路采用N2或者Ar气体，通过质量流量控制器控制； 7） 配备惰性气体自清洗系统，在控制界面中可以设置自动清洗的次数； 2.4 常温源装置及管路 1） 源瓶采用316不锈钢材料，容积为50 mL，配备手动阀。 2.5加热源装置及管路 1） 配置可拆卸加热套，最高加热温度可达150 ℃。配置温度传感器，温度控制精度满足±1℃； 2） 源瓶采用316不锈钢材料，容积为50 mL，配备耐高温波纹管手动阀1个； 2.6 固态加热源装置及管路 1） 配置可拆卸加热套，最高加热温度可达250 ℃。配置温度传感器，温度控制精度满足±1℃； 源瓶采用316不锈钢材料，容积为100 mL，配备耐高温波纹管手动阀2个；配备bubbler载气，载气使用bypass设计以确保气压的稳定性，配备独立流量计精确控制流量；2.7真空系统： 1） 配备机械泵抽真空，要求抽速不小于12 m3/h，本底真空0.5*10-3Torr； 2） 配备进口压力传感器，检测范围：1000-2.3*10-4 Torr，并配备真空计保护阀门，阀门具备在工艺过程中自动开闭保护真空计的功能，以延长真空计使用寿命； 3） 配备腔体自动抽气阀门，软件控制自动抽气和自动充气； 4） 真空抽气管道可以烘烤至150℃，且真空泵前级配置热阱，加热温度300℃，控制精度±1℃； 2.8控制系统 1） 控制系统要求使用网络通信PLC控制方式，控制元器件之间有足够的散热空间。设备的电气控制系统安全可靠，维护方便； 2） 控制系统要求可触屏操作，控制软件可执行自动抽气、自动充气、自动清洗、自动排空； 3） 可实时设定样品台加热温度和所有加热管路及阀门温度； 4） 可实时设置气体进气阀门开关及工艺气体流量； 5） 可实时显示并记录真空度、各加热温度及工艺气体流量； 6） 可实时显示及查询系统压力曲线； 7） 可提供弹性工艺配方设置，自由选择工艺中的前驱体源接口以及参与工艺的顺序 8） 软件控制系统中可自行切换多种沉积模式，包括连续流动的快速沉积模式、适合于高纵深比结构镀膜的暴露模式、适合多元化合物精确比例掺杂沉积的专业模式 3．验收指标： 厂家须提供氧化铝薄膜的标准工艺配方，前驱体为三甲基铝+水，按以下内容进行现场制备与验收： 薄膜均匀性：在4英寸晶圆上沉积约50nm厚氧化铝，以晶圆上5个均匀分散点（上、下、左、右、中心5点，每两点间距不小于15毫米）进行椭偏仪测试膜厚， 4英寸晶圆上薄膜均匀性≤±1%。 4、其他伴随服务 1）提供备用配件一套（含腔体密封圈、垫片等耗材）、使用手册、说明书、维修手册，标准工艺手册等各1套。 2）质保期1年，软件终身免费升级。 3）设备生产过程符合ISO9001质量管路体系认证要求 |
| 售后服务 | 质保期限:2年; |
公告来源：
https://www.yuncaitong.cn/publish/2019/09/04/16CFAEB498422A916FCC4BEE76BA2056.shtml
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