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2024/10/16
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低压化学气相沉积设备
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2024/10/12
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2024/10/11
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低压化学气相沉积设备
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2024/10/11
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2024/10/11
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2024/10/11
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低压化学气相沉积设备
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2024/09/14
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2024/09/14
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氮化硅
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2024/09/09
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多晶硅
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CVD反应
厚氧化硅
氮化硅
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氮化硅
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多晶硅
厚氧化硅
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微纳光学器件
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2024/08/27
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2024/08/27
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气体
低压化学气相沉积设备
氮化硅
CVD反应
多晶硅
厚氧化硅
干泵
微纳器件
退火工艺
微纳光学器件
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金额
98.28万元
项目地址
北京市
发布时间
2024/08/16
招标产品
原子层沉积系统
仪器设备
八英寸晶圆级氮化硅低压化学气相沉积设备
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