数据更新时间 2024/10/15 08:14:53

拓荆科技股份有限公司

拓荆

融资轮次IPO

成立时间2010/04/28

注册资本18818.8255万人民币

法人代表刘静

参保人数46 人

公司官网www.piotech.cn

企业性质央国企子公司

所属园区-

注册地址辽宁省沈阳市浑南区水家900号

办公地址-

行业归属先进制造、集成电路、半导体设备

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企业画像

业务简介

拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司在北京、上海、海宁、沈阳、美国成立子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品先进水平，公司产品已广泛应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等新技术领域。公司产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的60多条生产线，并设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。

主营业务

业务名称	业务画像	业务简介

拓拓荆科技	专用设备专用设备制造业仪器设备元器件养老金制造业半导体半导体支撑产业半导体设备数字经济	拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司在北京、上海、海宁、沈阳、美国成立子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品先进水平，公司产品已广泛应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等新技术领域。公司产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的60多条生产线，并设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。

合作伙伴

股东信息（32）

股东名称	出资比例	认缴出资金额	认缴时间

芯鑫旺共青城芯鑫旺投资合伙企业（有限合伙）	1.455%	138.0186万元人民币	-
芯鑫阳共青城芯鑫阳投资合伙企业（有限合伙）	1.4526%	137.7926万元人民币	-
君励投资嘉兴君励投资合伙企业（有限合伙）	7.3921%	701.2105万元人民币	-
芯鑫盛共青城芯鑫盛投资合伙企业（有限合伙）	1.4545%	137.9725万元人民币	-
润扬嘉禾青岛润扬嘉禾投资合伙企业（有限合伙）	6.571%	623.3158万元人民币	-
国家集成电路产业投资基金股份有限公司	26.4833%	2512.1755万元人民币	-
盛夏股权共青城盛夏股权投资管理合伙企业（有限合伙）	0.8212%	77.8947万元人民币	-
盛旺投资沈阳盛旺投资管理中心（有限合伙）	0.6619%	62.79万元人民币	-
聚源东方苏州聚源东方投资基金中心（有限合伙）	1.8977%	180.018万元人民币	-
芯鑫成共青城芯鑫成投资合伙企业（有限合伙）	1.455%	138.0205万元人民币	-
燕舞盐城经济技术开发区燕舞半导体产业基金（有限合伙）	1.5813%	150万元人民币	-

组织成员

企业对外投资（8）

被投资企业/项目名称	被投资法人/项目负责人	投资金额又称认缴金额	投资占比又称投资比例	被投资企业融资轮次	经营状态	披露时间	信息来源

深深圳市恒运昌真空技术有限公司	-	23.9032万人民币	3.1833	战略投资	-	-	-
拓荆创益拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司	刘静	50000万元人民币	100.0	-	存续	-	-
岩泉科技上海岩泉科技有限公司	徐鼎	10000万元人民币	100.0	-	存续	-	-
拓荆科技拓荆科技（上海）有限公司	刘静	48000万元人民币	100.0	-	存续	-	-
拓荆键科拓荆键科（海宁）半导体设备有限公司	刘静	617.5409万元人民币	57.847	-	存续	-	-
拓荆科技拓荆科技（北京）有限公司	刘静	5000万元人民币	100.0	-	存续	-	-
恒运昌深圳市恒运昌真空技术股份有限公司	乐卫平	0	3.1833	战略投资	存续	-	-
中科共芯广州中科共芯半导体技术合伙企业（有限合伙）	广州中科齐芯半导体科技有限责任公司	5000万元人民币	27.7624	-	存续	-	-

企业业务（1）

业务名称	业务画像	业务简介

拓拓荆科技	专用设备专用设备制造业仪器设备元器件养老金制造业半导体半导体支撑产业半导体设备数字经济	拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司在北京、上海、海宁、沈阳、美国成立子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品先进水平，公司产品已广泛应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等新技术领域。公司产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的60多条生产线，并设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。