公告摘要
项目编号cb10001sz2022000012
预算金额29.76万元
招标联系人-
中标联系人-
公告正文
北京大学深圳研究生院-结果公告(CB10001SZ2022000012)
申购单号:CB10001SZ2022000012成交总额:297600.0
申购主题:原子层沉积系统采购 送货时间:合同签订后150天内送达
采购单位:北京大学深圳研究生院 安装要求:免费上门安装(含材料费)
竞价开始时间:2022-11-07 16:56:17 收货地址:
竞价截至时间:2022-11-24 11:57:16
币种:人民币
付款方式:货到验收合格后付款
备注说明:
质疑说明:如果对成交结果有异议,请在发布成交结果之日起三个工作日内向采购单位提出质疑
竞价结果:
采购项:原子层沉积系统 品牌: 原速科技 型号: ExploiterE200S
成交总价:297600.00
成交供应商:苏州芬中传感技术有限公司
质保及售后服务: 按行业标准提供服务
技术参数: 1. 工作条件 1.1 电源电压:AC 380V±10%,50Hz,三相五线。 1.2 长时间连续工作(满足7×24,即每周7天、每天24小时运行)。 2. 设备基础规格 2.1 适用于8英寸、6英寸、4英寸、3英寸、2英寸及破片加工。 2.2 设备运行过程中,整机外壳温度均不高于60℃,以保证操作的安全性。 2.3.1 真空腔材质为不锈钢,腔体表面经过电解抛光处理。 2.3.2 样品台室温至500℃可控,尺寸不小于φ200mm,可放样品高度不小于10mm。 2.3.3 腔体进气方式:前驱体蒸汽通过喷淋头进入真空腔,蒸汽自上而下流经衬底。 2.3.4 腔体开关方式:可通过界面操作系统自动开关腔门,配备安全互锁检测功能,确保腔门在安全状态下开关;耐腐蚀O-ring密封。 2.3.5 腔体具备快速开关真空隔离装置,防止前驱体气体和等离子体活性自由基交叉污染,避免污染电感耦合等离子体反应装置。 2.3.6 真空腔体上方具备独立的反应气扩散区域,配备活动式结构,腔体上方所有结构可完全打开,便于清洁。 2.3.7 反应腔体内部配备可更换式内衬,维护时便于更换。 2.4.1 至少配备3路前驱体源管路:1路常温源、2路加热源(不低于150℃);其中常温源管路需加配耐腐蚀微调阀。 2.4.2 每个前驱体源气路至少配备1个源瓶(≥250mL)和2个进口阀门。 2.4.3 阀门配备安全互锁检测功能,在真空腔门打开时处于强制关闭状态,防止前驱体暴露在空气中。 2.4.4 配备1路反应物管路,反应物包含H2O,每路反应物管路分别配备1个进口阀门,阀门最高耐温不小于150℃。 2.4.5 反应物管路需加配微调阀。 2.4.6 反应物H2O管路需配备1个经过电解抛光处理且体积不小于75mL的不锈钢源瓶。 2.4.7 前驱体管路配有载气(N2),载气管路前端需配备计量调压阀、气动阀等。 2.4.8 吹扫管路采用1个质量流量控制器和1个进口阀门(阀门最高耐温不小于150℃)用于控制惰性气体。 2.4.9 管路及接头均采用EP级电解抛光不锈钢材料,所有气体管路连接处采用金属VCR密封。 2.5 源瓶系统:室温至150℃可控,控制精度:±1℃。 2.6 加热箱:室温至150℃可控,控制精度:±1℃,要求所有管路放置在加热箱内实现一体式加热,加热箱内管路温度均匀性±5℃。 2.7 采用固态继电器用于控制加热,符合 UL、CSA、ROHS标准。 2.8 真空泵采用双级油封式旋片真空泵,抽速65m3/h,噪音不大于62dB。 2.9 真空测量:至少配备2个真空压力计,包含一个高真空压力计和一个大气真空压力计。 2.10 真空压力计采用薄膜规,要求高精度,长寿命,必须对腐蚀性介质具有极高的耐受性,可在工艺进行的同时进行压力监测,精度:±0.25%读数;响应时间:<20ms;分辨率:≤0.005%FS;符合CE,ROHS规范。 3. 设备软硬件规格 3.1 控制系统配备工控机和PLC,工控机配备SSD固态硬盘,安装正版操作系统;PLC可支持2ms扫描周期。 3.2 输入设备配备鼠标、键盘和触摸显示器,显示器尺寸不小于19inch,可360度自由旋转,可调视距、视角、自由悬停。 3.3 界面操作系统支持历史数据、报警日志的存储和导入导出功能。 3.4 界面操作系统需实时展示系统加热状态、所有阀门开关状态、腔室压力状态。 3.5 界面操作系统具备配方编辑功能,可对工艺参数沉积温度、循环次数、脉冲时间等进行编辑。 3.6 用户可设定设备及工艺运行时的报警参数,包括但不限于温度、压力、流量等。 3.7 用户可设定设备及工艺运行时的提醒参数,包括前驱体源用量追踪及提醒功能。 3.8 界面操作系统具备用户权限管理功能,可根据用户级别设定使用权限,针对操作人员分级管理。 3.9 界面操作系统支持多个配方交替运行,实现单一和多层薄膜材料的制备。 3.10 界面操作系统可自动完成Thermal-ALD和PEALD的单一或多层配方运行。 3.11 界面操作系统配备独立的维护界面,所有管路具备自动清洗功能,确保ALD阀门与真空腔之间的管路没有前驱体残留。 3.12阀门配备电磁阀,电磁阀响应时间<5ms,带过电压保护回路,带动作指示灯。 4. 工艺及服务 4.1.1 工艺验收标准:8英寸(?200mm)单晶硅片基底上沉积30nm Al2O3薄膜,薄膜的不均匀性<2%(均匀九点)。 5. 质保期 5.1 货物免费保修期1年,时间自最终验收合格并交付使用之日起计算。保修期内,中标人对设备维修不收取任何费用,包括但不限于以下费用:零配件成本费、人工费、维修费等相关费用。保修期过后,提供有偿维修服务,仅收取零部件工本费以及差旅费。

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