中标
大额自行采购结果公示-202412170014
金额
24.5万元
项目地址
四川省
发布时间
2024/12/18
公告摘要
公告正文
大额自行采购结果公示 - 202412170014
| 申购单名称： | SG2024007951001 磁控溅射镀膜机 |
| 申购单类型： | 自行采购 |
| 使用币种： | 人民币 |
申购明细详情 | ||||||||||
| 序号 | 申购名称 | 计量单位 | 品牌 | 型号 | 技术参数 | 采购内容说明 | 供应商名称 | 成交数量 | 单价 | 成交金额 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 磁控溅射镀膜机 | 台 | 光拓 | GT500-Y2 | "1.1磁控溅射镀膜系统（1台） 1.1.1底盘结构 1.1.1.1采用型材搭建或焊接式框架，外观要求氧化处理或喷漆，防止生锈； 1.1.1.2底部带有轮子，可推动，并带有可调节高度的支脚。 1.1.1.3带有机械旋转手臂，有多角度调节操作界面。 1.1.1.4电气控制集成到底盘上，与真空腔体一体式。 1.1.2基片架结构 1.1.2.1★可以固定1片150mmx150mm基片，向下兼容，采用嵌入式结构。 基片带有加热烘烤功能，温度范围：室温-300℃。 1.1.2.2基片可上下升降，行程50mm，电机驱动实现连续旋转，最大转速可达30转/分钟，通过磁流体与基片托盘连接。 1.1.2.3配有二个挡板，气缸驱动，二个挡板组合使用，可遮挡范围150mmx150mm。 1.1.3溅射源1.1.3.1▲强磁和普磁靶各1个，4英寸，带靶挡板，靶角度可调节，可溅射金属及金属氧化物以及其它材料。 1.1.3.2▲每个靶全部通水冷，保护磁铁在高温溅射过程中消磁，工作压强(溅射)：0.1～10 Pa，溅射不均匀性≤±5％。 1.1.3.3▲配备3路MFC控制器，氩气、氧气、氮气，流量上限分别为200sccm, 200sccm, 200sccm。 1.1.3.41台国内知名品牌直流电源，功率不小于1KW； 1.1.3.51台国内知名品牌射频电源，功率不小于500W； 1.1.4自动化控制软件 1.1.4.1采用工控机控制模式，相关的操作均在工控机界面完成。 1.1.1.1控制软件的真空系统分为自动和手动模式，可以随时切换。1.1.4.3带有一键自动溅射功能。1.1.5真空室 1.1.5.1真空室由不锈钢制成，内部尺寸约为500mm*500mm*500mm，装有基础结构和挡板的固定装置，以及靶、真空泵、样品盘等装置。 1.1.5.2▲真空腔体配备两个可以完全打开的门，前门为移门，通过与直线导轨，滑块等装置连接，可使前门左右开启与关闭，后期也可以连接手套箱，在手套箱内部操作前门开关，确保整个工作环境处于氮气或惰性气体氛围中；后门旋转门，通过旋转轴实现后门的开关，开启后腔体内部完全暴露在空气中，主要的目的为维护检修，并配一个长方形观察窗，配合腔体外部照明灯，方便观察腔体内部状况。腔体极限真空优于5*10-5pa，从常压到5*10-4pa不超过20min（充氮气保护），保压12小时，压强小于10Pa。 1.1.5.3带有旁抽系统，可以在不关闭分子泵的条件下，打开腔室,进行样品及靶材的更换。 1.1.5.4腔体内表面预留安装金属防污挡板接口，后期可安装金属防污挡板。 1.1.6真空系统 1.1.6.1前级泵的抽速不低于30m³/h。 1.1.6.2主泵采用抽速≥1300l/s的分子泵。 1.1.6.3主泵和腔室之间安装有气动插板阀，通径≥200mm。 1.1.6.4▲自动抽气控制，带安全互锁功能。 1.1.6.5配有前级管路等相应的硬件。 1.1.6.6真空室配真空计，测量范围为大气至10-5pa。1.1.7提供售后承诺书、质保、质量认证书等； 1.1.7售后服务：终生免费技术支持，现场安装调试，7*24 全天候提交服务请求获取帮助，如果情况紧急或不宜采用远程手段解决，中标人应在2小时内作出响应，公司技术人员于48小时内，赶到技术服务现场；" | 双靶磁控溅射镀膜装置可用于实验室制备各种薄膜材料。适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系具体包括：各种硬质膜，金属膜，半导体膜，光学膜等。 | 苏州光拓科技有限公司 | 1 | 245000 | 245000 |
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