公告摘要
项目编号-
预算金额15.8万元
招标公司东南大学
招标联系人-
中标联系人-
公告正文
东南大学-结果公告(CB102862022002151)
申购单号:CB102862022002151成交总额:158000.0
申购主题:全自动三靶磁控溅射仪 送货时间:合同签订后15天内送达
采购单位:东南大学 安装要求:免费上门安装(含材料费)
竞价开始时间:2022-11-10 17:25:03 收货地址:
竞价截至时间:2022-11-15 10:14:43
币种:人民币
付款方式:货到验收合格后付全款
备注说明:
质疑说明:如果对成交结果有异议,请在发布成交结果之日起三个工作日内向采购单位提出质疑
竞价结果:
采购项:全自动三靶磁控溅射仪 品牌: 沈阳鹏程 型号: VCT300
成交总价:158000.00
成交供应商:沈阳鹏程真空技术有限责任公司
质保及售后服务: 1、按ISO9001质量管理体系组织设计、加工、装调、检验、包装、运输; 2、提供该设备的技术使用说明书及外购配件仪器仪表说明书; 3、在甲方现场验收后,一年内免费维修正常使用出现的故障,非正常的故障维修只核收工本费及差旅费,终身维修只核收工本费及差旅费; 4、每年免费提供2次设备巡检,保证客户设备处于完好状态
技术参数: 溅射室极限真空度:≤6.0x10-5Pa(经烘烤除气后); 系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S; 系统从大气开始抽气:溅射室25分钟可达到7x10-4 Pa; 系统停泵关机12小时后真空度:≤8Pa; 1 、溅射真空室 1套 真空室为筒型液压辅助上开盖结构,尺寸Ф280mmx300mm,全不锈钢结构。可内烘烤到100~150℃,氩弧焊接,表面进行电化学抛光钝化处理,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;腔体打开方式采用上顶开盖,使得换靶更加容易。 真空室组件上焊有各种规格的法兰接口如下: 1.1、 RF100法兰接口:1个(观察窗口); 1.2、CF16法兰接口:2个(1路进气管路、放气阀); 1.3、CF150法兰接口:1个(接分子泵); 1.4、RF300法兰接口:1个(用来安装磁控靶和靶挡板) 1.5、样品台法兰接口:1个(用来安装样品台) 1.6、CF25法兰接口:1个; 2 、磁控溅射系统(2套)(预留一个靶位) 2.1 、靶材尺寸:Ф50mm; 2.2 、提供靶材:(不锈钢)测试靶材2块 2.3 、永磁靶(其中一个可溅射磁性材料),射频溅射与直流溅射兼容,靶内水冷; 2.4 、进口SMC旋转气动控制挡板组件:2套; 2.5 、靶在上,向下溅射,共焦磁控溅射靶(溅射靶角度可调),分布在一个圆周上,各靶可独立/顺次/共同工作; 2.6 、500W直流脉冲电源1台(中山昊源); 2.7 、1000w脉冲直流偏压电源1台。(中山昊源) 2.8 、磁控靶与基片的距离可调,调节距离为:60~90mm。 3 、旋转转基片台 1套 3.1、安装尺寸为2英寸的样品可定位自传。也可实现多靶共溅射。 3.2、基片通过进口加热丝加热方式,加热温度:室温—600°C(抗氧化),由热电偶闭环反馈控制,可控可调; 3.3、基片自转由调速电机驱动,0—30转/分连续可调,转动速度 3.4、进口转角气缸样品挡板组件 1套 4 、窗口及法兰接口部件 1套 4.1、CF100玻璃窗口:1块 ; 4.2、CF35法兰:2个(照明及内烘烤引线); 4.3、盲法兰:CF16:1个;CF35:2个。 5 、加热装置 1套 加热装置在真空室上法兰上,对基片托板进行加热,通过热电偶控制控温电源实现闭环控制,系统由加热器和1个加热控温电源组成,加热电源配备日本进口控温表,控温方式为PID自动控温及数字显示;样品加热温度:室温~600°C,连续可调; 6、 工作气路 1套 6.1、氩100SCCM质量流量控制器(国产怡东)CF16电动截止阀、管路、接头等:共1; 6.2 DN16气动充气阀、DN16气动放气阀、管路、接头等:1路(国产); 7、抽气机组及阀门、管道 1套 7.1、复合分子泵及变频控制电源:1台(FF150/600 600l/s 中科九微); 7.2、机械泵:RVP-8,8L/S 1台(浙江卓捷); 7.3、DN40电动截止阀:1台(东易达); 7.4、 机械泵与真空室之间的旁抽管路:1套; 7.5、 CC150电动闸板阀:1台(北京KYKY、用于复合分子泵与真空室隔离); 7.6、 DN40旁抽角阀:1台(北京东易达) 7.7、 压差式充气阀:1台(上海西玛特) 8、安装机台架组件 1套 优质冷轧板折弯焊接成型,快卸围板表面喷塑处理;机台内嵌电控柜;四只脚轮,可固定,可移动。790mmX780mmX750mm(泵组专用) 9、真空测量 1套 溅射室采用进口MPG400全量程复合规进行测量。 10、系统采用PLC+嵌入一体式触摸屏工控机实现全自闭后环动控制方式 10.1、系统设有自动镀膜模式: 可实现自动抽空到达工作真空度后,手动进行镀膜参数设置,实验结束后一键自动充气,整体节省操作时间。此时系统处于开环控制状态。 10.2、系统提供计算机实时通讯,显示记录真空度以及加热温度PID调节设定。 10.3、系统提供计算机实时通讯,设定显示直流电源、射频电源功率参数调整,气体流量控制调节,制定工艺菜单及自动记录设定各项工艺参数存储。 10.4、系统提供计算机MFC的工艺气体稳压控制调节。 10.5、计算机设定显示挡板状态,样品转速等 11、水冷循环机: 1P 1台 12、静音气泵 :500W 1台 13、备品备件 1套

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