项目名称	工科物理实验建设(六期)-磁控溅射系统	项目编号	JJ24000088
公告开始日期	2024-03-20 01:07:34	公告截止日期	2024-03-23 03:00:00
采购单位	东北大学	付款方式	货到验收付款
联系人	成交后在我参与的项目中查看	联系电话	成交后在我参与的项目中查看
签约时间要求	成交后5个工作日内	到货时间要求	签约后60个工作日内
预算总价	￥ 244000.00 + NaN + NaN
发票要求	增值税普通发票 增值税专用发票
含税要求
送货要求
安装要求
收货地址	辽宁省沈阳市和平区文化路3巷东北大学建筑学馆
供应商资质要求	符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件
公告说明

采购清单1

采购商品	采购数量	计量单位	所属分类
磁控溅射系统	1	台	其他仪器仪表 无 无

品牌 品牌1	杭州大华
型号	Table PVD-10
品牌2
型号
品牌3
型号
品牌4
型号
品牌5
型号
品牌6
型号
预算单价	￥ 244000.00
技术参数及配置要求	1、溅射腔体：约Φ250×H300mm；304不锈钢焊接腔体，圆柱式，前开门配观察窗；后置抽气系统； 2、真空系统 2.1 抽气系统 1）机械泵+分子泵两级真空系统 2）前级泵：采用DRV-16机械泵及电磁压差式充气阀，抽速：4L/S 3）主抽泵：分子泵，抽气速率：62L/S 接口法兰：CF63，转速：72000rpm 极限压强：5×10-7Pa 4）主抽阀：CC-63 超高真空电动闸板阀，用于分子泵与沉积室隔离，可调节分子泵抽速从而可以降低工艺气体流量，有利于稳定工艺气压。 5）旁抽、前级阀门： GDC-J16 6）放气阀：电磁截止阀（DJ2C-6）用于真空室解除及真空充气使用。 2.2 真空测量：全量程数显复合真空计，测量范围：1×105～1×10-5Pa；真空测量采用“一低一高” 2.3系统性能指标 1）极限真空度：优于7.5×10-5Pa （连续抽气24小时达到） 2）恢复真空：从大气抽至8×10-4Pa≤45分钟（充干燥氮气并且真空室内无放气量大的材料） 3）真空室漏率：关机12小时真空度≤5Pa。（新设备空载，极限真空后关机） 4、磁控溅射靶 数量：2套 1）磁控溅射靶磁路模块化设计，靶材直接水冷；磁铁不泡水，避免磁铁腐蚀退磁；磁路模块化，方便不同应用随时更换； 2）靶材大小为直径50.8mm，建议厚度≤5mm，靶材利用率超过40% 3）镀膜方式：由上往下溅镀；共焦（溅射靶角度可调） 4）镀膜均匀性：3英寸范围内薄膜厚度均匀性优于±5%； 5、样品台 1）样品台：抽屉式结构可装载最大3英寸基片托（方片尺寸60×60mm）可以根据客户样品形状和大小定制样品托。 2）样品台旋转：转速0-30rpm连续可调；步进电机控制，转动平稳。 3）样品台加热：采用数字温控仪，最高温度300℃，自动控温及数字显示，精度±0.5℃，可设定升温斜率。加热区内，温度均匀性±5℃。 4）样品台上方设置气动基片挡板； 6、溅射电源 1）射频电源：功率300W，频率13.56MHz，全自动匹配一体机；数量1套 2）直流溅射电源：最大输出功率：500W；输出电压：0～-800V可调 数量1套 7、工艺气路 质量流量计控制器，最大流量200sccm一路，可向真空腔体中通入惰性气体； 配有电磁截止阀控制进气。 8、控制单元 1）采用PLC+触摸屏控制，可实现自动一键式抽真空，溅射电源手动以方便用户进行镀膜工艺参数的索； 2）控制内容：总供电、分子泵、机械泵、阀门；分子泵电源参数显示及开关控制；真空计、质量流量控制器参数显示及控制；基片台转速控制；基片加热温度控制等； 3）安全保护报警系统：在缺水、水压过低、电源过流、短路等异常情况执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统。 9、工业冷水机 采用微电脑PLC控制，可自动控制整机运行，全功能防错操作系统，电气部分均为国际品牌，保证机器工作稳定，寿命长久。全钛管式水箱蒸发器，防止纯水在输送过程中产生固体和其它金属杂质。精密数显温度控制器，能精确控制水温±1℃，按键式操作，安装简便，静电喷塑外壳，欧化设计，美观大方，外表板采用快速拆装形式。 1）标准制冷量：2941 Kcal/h 2） 输入功率：1.29 kw 3）冷冻水量（m3/h）：0.59 4）水箱容量（L）：16 5）安全保护：压缩机过热，过流，高低压力，超温，流量，相序，排气过热保护 6）外形尺寸：长580mm×宽440mm×高770mm
参考链接
售后服务	商品承诺:送货上门/安装调试/技术培训;需提供免费上门技术培训，有专门技术工程师负责指导使用，培训内容包括：系统原理、实验操作、电气控制的使用、仪器维护、安全要点以及其他相关内容；质保期内设备的维修免费（人为损坏因素除外）；每年免费提供2次设备巡检，能够对设备进行长期维护和检修；随时跟踪设备运行及维护，保证设备正常运行；;

东北大学
2024-03-20 01:07:34