公告摘要
项目编号sustech-jc-2023-00950
预算金额70万元
招标公司南方科技大学
招标联系人-
中标联系人-
公告正文
南方科技大学 
 
SUSTech-JC-2023-00950
竞采结果公告
项目名称 反应离子刻蚀机采购项目
项目编号 SUSTech-JC-2023-00950
项目类型 货物类
成交方式 最低价成交
公示时间 本公告自发布之日起三日
成交单位 北京拙明科技有限公司
成交金额(元) 650000.00
成交理由 最低价成交
预算(元) 700000.0
项目预算是否含税 国产含税
备注




采购明细
序号 名称 数量 单位 单价/元(报价) 总价/元(报价)
1
反应离子刻蚀机(核心货物)
1

650000.0
650000.0
品牌
三和联
型号
SHL 100μ-RIE
生产厂商
北京三和联科技有限公司
产地信息
北京市昌平区
技术规格及参数
设备功能:基于平板式等离子体原理,机台可用于制备微纳结构以及材料减层刻蚀, 可用于如金属硫族化合物、WTe2、MoS2、石墨烯等二维材料逐层减层刻蚀和图形化刻蚀;可用于如单晶硅、多晶硅、氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiO2)、石英(Quartz)以及碳化硅(SiC)等硅基材料的图案化蚀刻;可用于如光刻胶、PMMA等有机材料的图案化刻蚀。
工艺腔
1、样品台:4英寸圆片,兼容2英寸圆片以及碎片
*2、偏置功率源:固态13.56 MHz射频电源0~100 W可调,最大满功率100 W,输出功率1~100W可调,最小稳定工艺功率3W,功率调节精度0.1 W
3、样片控温范围:5 ℃~室温,控温精度±1 ℃
*4、工艺腔材质为半导体级铝材,内径340mm,内壁经耐腐氧化处理
*5、工艺腔内壁带有内衬,内衬表面经耐腐氧化处理
传输腔
1、传输腔一套,预留大气样片传输口与手套箱传输口
2、真空机械手一套
真空泵组
1、分子泵:采用抽速为620L/s的油润滑分子泵
2、前级泵:采用抽速为11 L/s机械泵
3、工艺真空规:使用进口INFICON耐腐蚀电容薄膜真空计测量腔室真空
气路系统
1、气体种类:五路工艺气体O2, Ar, CF4,CHF3, SF6,一路吹扫气体N2,一路CDA
2、气体量程:O2, Ar, CF4, CHF3, SF6: 0~300 sccm
*3、气体流量控制使用气体质量流量计(MFC),MFC采用金属密封方式,采用串口数字通讯方式,支持在线更改气体种类与气体量程,气体管路接头采用日本Fujikin接头,MFC前后端设置气动隔膜阀以保护MFC
控制系统
1、控制系统:机台采用Windows系统的工控机作为机台的控制系统主机
2、控制软件:基于C语言自主研发,软件支持全自动流程控制,支持recipe工艺菜单库,支持机台日志与工艺数据记录,支持异常报警处理,支持登录权限管理
3、机台人机交互界面采用15英寸触摸屏显示器,控制软件带有用户等级管理与操作权限管理;带有自动运行与工程维护界面模块;带有实时显示机台状态功能;带有日志管理功能,带有工艺过程参数记录、机台事件记录以及机台警报与异常记录功能,支持生成机台Log文件;带有动作互锁功能;带有工艺菜单编辑功能;带有机台异常处理功能,单次刻蚀,支持多步刻蚀工艺
*5、机台安全控制系统带有安全互锁与急停机制(EMO);机台带有异常处理机制
工艺指标
*1、刻蚀速率:二维材料:0.2~2 layer/min(慢速逐层刻蚀),1 nm~30 nm/min(快速图形化刻蚀),硅基材料:5~20nm/min,PR材料:5~50nm/min
2、二维材料逐层减层刻蚀离子最小能量为8 eV
3、刻蚀均匀性:<±5%(@四英寸去除边缘效应)
所响应产品都是全新、未使用过的原装合格正品(包括零部件),软件为正版软件。
质保期
验收合格后12个月
售后要求
报修联系人:曹英豪,电话:13643950550.验收合格后保修方案:电话24小时内响应,72小时内提供远程诊断和指导。电话不能解决问题的,我单位将在48小时内派遣工程师到达客户现场。

付款方式 4.合同生效并收到相应发票后支付合同总额的50%作为进度款;材料到达指定安装现场且安装、调试验收合格并提供全额发票后支付合同总额的50%.
交货期 合同签订后150天(自然日)内,具体时间根据学校要求提前3天(自然日)通知送货
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