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常规介质膜沉积腔
"常规介质膜沉积腔"标讯
中标
清华大学PECVD(Si3N4/SiON/SiO2)采购项目（清设招第2022257号）单一来源公示
项目地址
北京市
发布时间
2022/09/05
招标产品
PECVD
化学气相沉积设备
TSVSiO2沉积腔
TEOSSiO2沉积腔
常规介质膜沉积腔
低温成膜
招标公司
清华大学
中标公司
拓荆科技股份有限公司
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